LK Technologies 的 NGI3000 型離子槍及其控制電子設備，專為通過離子濺射進行表面清洗而設計，束能最高可達 3 keV，離子電流最高 25 μA。該離子槍采用了一種創新的氣體注入系統，使得在典型腔體壓力 1 × 10?? Torr 下即可實現穩定的濺射過程。
這一技術大大降低了氣體負載，相較于傳統離子槍（通常需將腔體回充至約 5 × 10?? Torr），可顯著縮短抽氣時間，并減少因氣體雜質帶來的問題。
該氣體注入系統還使 NGI3000 可直接用于 離子散射譜（ISS） 及其他離子光譜分析，無需昂貴的差動抽氣裝置。在標準配置下，離子槍可發出寬離子束，確保對樣品的均勻濺射，滿足多數樣品清潔應用的要求。
一個完整的濺射蝕刻系統通常包括：
NGI3000 離子槍
NGI3000-SE 控制電子設備
NGI3000-LV 泄漏閥
該系統性價比高，并提供兩種標準槍體長度（詳見尺寸圖），可廣泛應用于各類常規濺射清洗及 ISS 分析任務。
性能特點
專利氣體注入系統，無需昂貴的差動抽氣設備
惰性氣體濺射，低腔體壓力（約 10?? Torr）
寬離子束，實現均勻濺射
與常規的濺射清洗及 ISS 應用兼容
束電壓連續可調，最高至 3 kV
性能數據
表 1：樣品電流與束電壓（槍距 2.5 cm，發射電流 20 mA）
| 束電壓 (kV) | 樣品電流 (μA) |
|---|---|
| 0.50 | 12 |
| 1.00 | 19 |
| 2.00 | 25 |
| 3.00* | 28* |
* 電流密度超過 100 μA/cm2
表 2：束斑直徑與槍-樣品距離
| 槍距 (cm) | 束斑直徑 (FWHM) (mm) |
|---|---|
| 1.5 | 6 |
| 2.5 | 8 |
| 14.0 | 30 |
技術參數
束電壓：0.1 – 3 kV，連續可調
離子源類型：電子轟擊提取型
燈絲：可更換，釷鎢絲（thoriated iridium）
束電流：額定最大 25 μA，發射電流 20 mA，電流密度 > 100 μA/cm2
束直徑：高斯形束斑，隨目標距離變化，典型值為 2.5 cm 時約 8 mm
安裝法蘭：2.75 英寸外徑 CF 法蘭，帶 4 個 SHV 接頭
氣體進氣口：法蘭上集成泄漏閥
離子源工作壓力：約 5 × 10?? Torr
腔體工作壓力：約 1 × 10?? Torr（150 L/s 抽氣系統）
差動抽氣：不需要
控制電子設備：機架安裝，前面板可調束電壓與發射電流，帶電流測量功能
