LK Technologies 的 NGI3000 型離子槍及其控制電子設(shè)備，專為通過離子濺射進(jìn)行表面清洗而設(shè)計(jì)，束能最高可達(dá) 3 keV，離子電流最高 25 μA。該離子槍采用了一種創(chuàng)新的氣體注入系統(tǒng)，使得在典型腔體壓力 1 × 10?? Torr 下即可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的濺射過程。
這一技術(shù)大大降低了氣體負(fù)載，相較于傳統(tǒng)離子槍（通常需將腔體回充至約 5 × 10?? Torr），可顯著縮短抽氣時(shí)間，并減少因氣體雜質(zhì)帶來的問題。
該氣體注入系統(tǒng)還使 NGI3000 可直接用于 離子散射譜（ISS） 及其他離子光譜分析，無需昂貴的差動(dòng)抽氣裝置。在標(biāo)準(zhǔn)配置下，離子槍可發(fā)出寬離子束，確保對(duì)樣品的均勻?yàn)R射，滿足多數(shù)樣品清潔應(yīng)用的要求。
一個(gè)完整的濺射蝕刻系統(tǒng)通常包括：
NGI3000 離子槍
NGI3000-SE 控制電子設(shè)備
NGI3000-LV 泄漏閥
該系統(tǒng)性價(jià)比高，并提供兩種標(biāo)準(zhǔn)槍體長(zhǎng)度（詳見尺寸圖），可廣泛應(yīng)用于各類常規(guī)濺射清洗及 ISS 分析任務(wù)。
性能特點(diǎn)
專利氣體注入系統(tǒng)，無需昂貴的差動(dòng)抽氣設(shè)備
惰性氣體濺射，低腔體壓力（約 10?? Torr）
寬離子束，實(shí)現(xiàn)均勻?yàn)R射
與常規(guī)的濺射清洗及 ISS 應(yīng)用兼容
束電壓連續(xù)可調(diào)，最高至 3 kV
性能數(shù)據(jù)
表 1：樣品電流與束電壓（槍距 2.5 cm，發(fā)射電流 20 mA）
| 束電壓 (kV) | 樣品電流 (μA) |
|---|---|
| 0.50 | 12 |
| 1.00 | 19 |
| 2.00 | 25 |
| 3.00* | 28* |
* 電流密度超過 100 μA/cm2
表 2：束斑直徑與槍-樣品距離
| 槍距 (cm) | 束斑直徑 (FWHM) (mm) |
|---|---|
| 1.5 | 6 |
| 2.5 | 8 |
| 14.0 | 30 |
技術(shù)參數(shù)
束電壓：0.1 – 3 kV，連續(xù)可調(diào)
離子源類型：電子轟擊提取型
燈絲：可更換，釷鎢絲（thoriated iridium）
束電流：額定最大 25 μA，發(fā)射電流 20 mA，電流密度 > 100 μA/cm2
束直徑：高斯形束斑，隨目標(biāo)距離變化，典型值為 2.5 cm 時(shí)約 8 mm
安裝法蘭：2.75 英寸外徑 CF 法蘭，帶 4 個(gè) SHV 接頭
氣體進(jìn)氣口：法蘭上集成泄漏閥
離子源工作壓力：約 5 × 10?? Torr
腔體工作壓力：約 1 × 10?? Torr（150 L/s 抽氣系統(tǒng)）
差動(dòng)抽氣：不需要
控制電子設(shè)備：機(jī)架安裝，前面板可調(diào)束電壓與發(fā)射電流，帶電流測(cè)量功能
