高分辨率電子能量損失光譜（EELS）是一種強(qiáng)大的表面分析技術(shù)，能夠在高真空環(huán)境下對金屬和半導(dǎo)體表面進(jìn)行獨(dú)特的振動(dòng)分析。絕緣體和聚合物薄膜在適當(dāng)條件下也可以進(jìn)行分析。EELS能夠提供以下重要信息：
吸附物的分子結(jié)構(gòu)（分解、聚合）
吸附幾何—表面鍵合位置
表面化學(xué)（氧化物形成、還原、中間體等）
倍頻和組合振動(dòng)帶
表面聲子和光學(xué)聲子
值得注意的是，EELS比紅外光譜具有更高的表面靈敏度和更廣的光譜范圍。例如，可以在幾分鐘內(nèi)掃描200-5000 cm?1的光譜范圍，并且可以檢測到少于10?3單層的吸附CO。與紅外光譜不同，EELS不受嚴(yán)格的偶極選擇規(guī)則的限制，這些規(guī)則常常妨礙重要模式和吸附物的觀察。在EELS中，長程偶極和短程“沖擊”散射機(jī)制都能有效工作，并可以根據(jù)散射角度和沖擊能量進(jìn)行研究。例如，顯示弱偶極活性的分子吸附物可以在沖擊散射區(qū)被檢測到。EELS獲得的信息理想地補(bǔ)充了由奧杰電子譜（Auger）、ESCA、LEED、SIMS、STM和其他表面探針獲得的數(shù)據(jù)，并為實(shí)驗(yàn)者提供了更容易的解釋。
LK2000光譜儀
自1986年商業(yè)化推出以來，LK2000高分辨率EELS光譜儀因其出色的性能，在國際上獲得了廣泛認(rèn)可。這個(gè)聲譽(yù)建立在我們對可靠性、客戶滿意度以及持續(xù)改進(jìn)儀器的承諾上。LK2000的專利電子光學(xué)系統(tǒng)和創(chuàng)新的計(jì)算機(jī)控制是將EELS技術(shù)從過去僅限于專家使用的精密技術(shù)，變成了表面科學(xué)家用于振動(dòng)光譜的“工作馬”的主要因素。LK2000已經(jīng)廣泛應(yīng)用于全球的工業(yè)和學(xué)術(shù)實(shí)驗(yàn)室，成功應(yīng)用于多種問題的解決，包括金屬上碳?xì)浠瘜W(xué)吸附（催化）、硅片清洗技術(shù)分析、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究等。
特點(diǎn)
分辨率：3 meV（FWHM）及以下
雙通道單色儀
優(yōu)越的單色電流和計(jì)數(shù)率
極低的光譜背景，無“幽靈”峰
主光束能量可調(diào)：0-240 eV
日常操作簡便
提供固定或可旋轉(zhuǎn)分析儀
標(biāo)配雙磁屏蔽
低噪聲，高穩(wěn)定性電源
計(jì)算機(jī)控制電子系統(tǒng)，配有自動(dòng)調(diào)諧軟件
提供完整的UHV系統(tǒng)
LK2000配備了雙通道127°單色儀，具有卓越的電流和極低的光譜背景，并與單通道分析儀配合使用。儀器的分辨率保證為3 meV，結(jié)合了非常高的信號(hào)水平。此外，LK2000提供三種標(biāo)準(zhǔn)安裝配置，便于系統(tǒng)集成。
LK Technologies率先推出了完全計(jì)算機(jī)控制的電子系統(tǒng)（型號(hào)LK2000-DAC）。這一創(chuàng)新的PC基礎(chǔ)系統(tǒng)配有菜單驅(qū)動(dòng)的軟件，允許設(shè)置和優(yōu)化所有光譜儀電壓，并監(jiān)控關(guān)鍵電流水平。通過讀取和存儲(chǔ)光譜儀設(shè)置的完整表格，提供了傳統(tǒng)EELS電源無法比擬的速度和靈活性。這是唯一提供高級(jí)軟件的商業(yè)系統(tǒng)，用于自動(dòng)優(yōu)化信號(hào)水平和峰形。該集成系統(tǒng)包括信號(hào)恢復(fù)電子學(xué)和菜單驅(qū)動(dòng)的軟件，用于采集、顯示和分析EELS振動(dòng)光譜。
性能規(guī)格
能量分辨率與電流
FWHM：
3 meV：> 100 pA
4 meV：> 180 pA
6 meV：> 350 pA
探測器電流*：
10 pA
20 pA
60 pA
*在直接光束幾何條件下測量
信號(hào)水平
彈性通道中的典型計(jì)數(shù)率為：3-6 meV系統(tǒng)分辨率下，10 KHz到3 MHz。計(jì)數(shù)率是樣品狀態(tài)和主光束能量的強(qiáng)函數(shù)。
背景
彈性通道強(qiáng)度與背景強(qiáng)度的比率在25 meV能量損失及以上時(shí)大于10?（儀器背景）。
主能量
可變范圍：0-240 eV
樣品偏置：±15 V
能量掃描：
從5 eV（增益）到+15 eV損失能量（可選+50 eV）
計(jì)算機(jī)控制電子學(xué)
操作范圍：240 eV光束能量
低噪聲：波紋小于250μV P-P
漂移：小于1 mV/周
易于讀取所有光譜儀電壓和關(guān)鍵電流
完全光學(xué)隔離
軟件允許手動(dòng)或自動(dòng)優(yōu)化光譜儀電壓
規(guī)格
型號(hào) LK2000-14 或型號(hào) LK2000-10 高分辨率 EELS 光譜儀
法蘭安裝光譜儀，具有剛性光學(xué)系統(tǒng)，包括所有電氣穿透裝置、電子倍增器和磁屏蔽。詳細(xì)尺寸見宣傳冊。
型號(hào) LK2000-14-R 高分辨率 EELS 光譜儀
法蘭安裝光譜儀，配有55度精密旋轉(zhuǎn)分析儀，包括所有電氣穿透裝置、電子倍增器和磁屏蔽。詳細(xì)尺寸見宣傳冊。
型號(hào) LK2000-DAC
數(shù)字控制電子系統(tǒng)包。包括對光譜儀電壓的數(shù)字控制和關(guān)鍵電流的讀取。該包包括皮安計(jì)、噪聲抑制濾波器、電源、386 PC/AT 配色顯示器、硬盤、雙軟盤、圖形卡和接口設(shè)備。包括用于數(shù)據(jù)采集、自動(dòng)優(yōu)化和控制光譜儀電壓的菜單驅(qū)動(dòng)軟件。包括型號(hào) LK2000-CE 計(jì)數(shù)電子學(xué)包以及必要的接口。
型號(hào) LK2000-CE
計(jì)數(shù)電子學(xué)包，包含前置放大器、放大器/鑒別器、計(jì)速計(jì)（1 MHz）、11V電子倍增器電源和NIM-bin電源。
UHV 系統(tǒng)
為 LK2000 系列 EELS 光譜儀提供完整的超高真空系統(tǒng)。這些系統(tǒng)通常包括定制的不銹鋼真空腔、離子泵和/或渦輪分子泵，以及具有加熱/冷卻選項(xiàng)的精密樣品操作。
應(yīng)用于 UPS
LK2000 的高分辨率分析儀也可以作為角度分辨型儀器，用于光電子能譜（UPS）研究，適用于實(shí)驗(yàn)室或同步輻射光源。請聯(lián)系 LK Technologies 獲取該應(yīng)用的最新信息。
機(jī)械規(guī)格：
安裝在10英寸或14英寸外徑 CFF 標(biāo)準(zhǔn)法蘭上（根據(jù)要求提供定制設(shè)計(jì)）
與8英寸或12英寸外徑的聯(lián)接板兼容
法蘭到焦點(diǎn)的距離：12英寸
UHV腔體尺寸：12英寸和18英寸外徑
提供多種樣品接入模式
單元可在200°C下烘烤