LK2000 高分辨率電子能量損失光譜儀 EELS 吸附物的振動頻率 吸附物的分子結構 表面鍵合強度 吸附幾何 表面化學

高分辨率電子能量損失光譜(EELS)是一種強大的表面分析技術,能夠在高真空環境下對金屬和半導體表面進行獨特的振動分析。絕緣體和聚合物薄膜在適當條件下也可以進行分析。EELS能夠提供以下重要信息:

值得注意的是,EELS比紅外光譜具有更高的表面靈敏度和更廣的光譜范圍。例如,可以在幾分鐘內掃描200-5000 cm?1的光譜范圍,并且可以檢測到少于10?3單層的吸附CO。與紅外光譜不同,EELS不受嚴格的偶極選擇規則的限制,這些規則常常妨礙重要模式和吸附物的觀察。在EELS中,長程偶極和短程“沖擊”散射機制都能有效工作,并可以根據散射角度和沖擊能量進行研究。例如,顯示弱偶極活性的分子吸附物可以在沖擊散射區被檢測到。EELS獲得的信息理想地補充了由奧杰電子譜(Auger)、ESCA、LEED、SIMS、STM和其他表面探針獲得的數據,并為實驗者提供了更容易的解釋。

LK2000光譜儀

自1986年商業化推出以來,LK2000高分辨率EELS光譜儀因其出色的性能,在國際上獲得了廣泛認可。這個聲譽建立在我們對可靠性、客戶滿意度以及持續改進儀器的承諾上。LK2000的專利電子光學系統和創新的計算機控制是將EELS技術從過去僅限于專家使用的精密技術,變成了表面科學家用于振動光譜的“工作馬”的主要因素。LK2000已經廣泛應用于全球的工業和學術實驗室,成功應用于多種問題的解決,包括金屬上碳氫化學吸附(催化)、硅片清洗技術分析、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究等。

特點

  • 分辨率:3 meV(FWHM)及以下

  • 雙通道單色儀

  • 優越的單色電流和計數率

  • 極低的光譜背景,無“幽靈”峰

  • 主光束能量可調:0-240 eV

  • 日常操作簡便

  • 提供固定或可旋轉分析儀

  • 標配雙磁屏蔽

  • 低噪聲,高穩定性電源

  • 計算機控制電子系統,配有自動調諧軟件

  • 提供完整的UHV系統

LK2000配備了雙通道127°單色儀,具有卓越的電流和極低的光譜背景,并與單通道分析儀配合使用。儀器的分辨率保證為3 meV,結合了非常高的信號水平。此外,LK2000提供三種標準安裝配置,便于系統集成。

LK Technologies率先推出了完全計算機控制的電子系統(型號LK2000-DAC)。這一創新的PC基礎系統配有菜單驅動的軟件,允許設置和優化所有光譜儀電壓,并監控關鍵電流水平。通過讀取和存儲光譜儀設置的完整表格,提供了傳統EELS電源無法比擬的速度和靈活性。這是唯一提供高級軟件的商業系統,用于自動優化信號水平和峰形。該集成系統包括信號恢復電子學和菜單驅動的軟件,用于采集、顯示和分析EELS振動光譜。

性能規格

  1. 能量分辨率與電流

    • FWHM:

      • 3 meV:> 100 pA

      • 4 meV:> 180 pA

      • 6 meV:> 350 pA

    • 探測器電流*:

      • 10 pA

      • 20 pA

      • 60 pA

      • *在直接光束幾何條件下測量

  2. 信號水平

    • 彈性通道中的典型計數率為:3-6 meV系統分辨率下,10 KHz到3 MHz。計數率是樣品狀態和主光束能量的強函數。

  3. 背景

    • 彈性通道強度與背景強度的比率在25 meV能量損失及以上時大于10?(儀器背景)。

  4. 主能量

    • 可變范圍:0-240 eV

    • 樣品偏置:±15 V

  5. 能量掃描

    • 從5 eV(增益)到+15 eV損失能量(可選+50 eV)

  6. 計算機控制電子學

    • 操作范圍:240 eV光束能量

    • 低噪聲:波紋小于250μV P-P

    • 漂移:小于1 mV/周

    • 易于讀取所有光譜儀電壓和關鍵電流

    • 完全光學隔離

    • 軟件允許手動或自動優化光譜儀電壓

規格

型號 LK2000-14 或型號 LK2000-10 高分辨率 EELS 光譜儀
法蘭安裝光譜儀,具有剛性光學系統,包括所有電氣穿透裝置、電子倍增器和磁屏蔽。詳細尺寸見宣傳冊。

型號 LK2000-14-R 高分辨率 EELS 光譜儀
法蘭安裝光譜儀,配有55度精密旋轉分析儀,包括所有電氣穿透裝置、電子倍增器和磁屏蔽。詳細尺寸見宣傳冊。

型號 LK2000-DAC
數字控制電子系統包。包括對光譜儀電壓的數字控制和關鍵電流的讀取。該包包括皮安計、噪聲抑制濾波器、電源、386 PC/AT 配色顯示器、硬盤、雙軟盤、圖形卡和接口設備。包括用于數據采集、自動優化和控制光譜儀電壓的菜單驅動軟件。包括型號 LK2000-CE 計數電子學包以及必要的接口。

型號 LK2000-CE
計數電子學包,包含前置放大器、放大器/鑒別器、計速計(1 MHz)、11V電子倍增器電源和NIM-bin電源。

UHV 系統
為 LK2000 系列 EELS 光譜儀提供完整的超高真空系統。這些系統通常包括定制的不銹鋼真空腔、離子泵和/或渦輪分子泵,以及具有加熱/冷卻選項的精密樣品操作。

應用于 UPS
LK2000 的高分辨率分析儀也可以作為角度分辨型儀器,用于光電子能譜(UPS)研究,適用于實驗室或同步輻射光源。請聯系 LK Technologies 獲取該應用的最新信息。

機械規格:

  • 安裝在10英寸或14英寸外徑 CFF 標準法蘭上(根據要求提供定制設計)

  • 與8英寸或12英寸外徑的聯接板兼容

  • 法蘭到焦點的距離:12英寸

  • UHV腔體尺寸:12英寸和18英寸外徑

  • 提供多種樣品接入模式

  • 單元可在200°C下烘烤