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                      精密表面科學(xué)設(shè)備和分析設(shè)備 高性能電子和離子光學(xué)儀器
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                      標(biāo)簽: TDS1000

                      熱脫附光譜儀(TDS/TPD)TDS1000 系統(tǒng) 程序升溫脫附光譜儀 表面科學(xué)分析

                      熱脫附光譜儀(TDS/TPD)TDS1000 系統(tǒng) 程序升溫脫附光譜儀 表面科學(xué)分析

                      2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                      熱脫附光譜儀 TDS/TDP
                      表面科學(xué)用超高真空系統(tǒng) XPS 分析儀 半球分析儀 AES、ISS、多通道 HREELS 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) TDS1000 熱脫附系統(tǒng)

                      表面科學(xué)用超高真空系統(tǒng) XPS 分析儀 半球分析儀 AES、ISS、多通道 HREELS 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) TDS1000 熱脫附系統(tǒng)

                      2025年4月29日 汪經(jīng)理 電話:17717301704
                      UHV系統(tǒng)

                      關(guān)于我們

                      LK Technologies設(shè)計(jì)和制造精密表面科學(xué)設(shè)備和表面分析設(shè)備,包括完整的系統(tǒng)。 自 1986 年以來(lái),LK 一直為全球領(lǐng)先的學(xué)術(shù)和工業(yè)實(shí)驗(yàn)室提供堅(jiān)固耐用的高性能電子和離子光譜學(xué)儀器以及經(jīng)濟(jì)高效的系統(tǒng)解決方案。

                      熱門產(chǎn)品

                      AES ISS LEED LK Technologies NGI3000 RDA-003G RDA-004P RHEED RVL2000 TDS TDS1000 TPD XPS 分析儀 XYZ 操控器 XY 移動(dòng)平臺(tái) 低能電子衍射系統(tǒng) 俄歇電子能譜 俄歇電子能譜(AES)測(cè)試 減速場(chǎng)分析(RFA) 半球分析儀 反射觀察式 LEED 系統(tǒng) 反射高能電子衍射系統(tǒng) 四軸樣品臺(tái) 多通道 HREELS 差分抽氣旋轉(zhuǎn)臺(tái) 旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)器 樣品溫度控制器 濺射蝕刻系統(tǒng) 熱脫附光譜儀 熱脫附系統(tǒng) 熱解吸光譜儀 直線驅(qū)動(dòng)器 離子散射譜光譜分析 離子槍 離子源 程序升溫脫附光譜儀 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) 表面科學(xué)分析 超高真空系統(tǒng) 超高真空腔體 通過(guò)離子濺射進(jìn)行表面清洗 集成鎖相放大器 高性能低噪聲俄歇電子學(xué)模塊

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                      • 低能電子衍射(LEED)系統(tǒng)、RVL2000、兼容俄歇電子能譜(AES)、反射高能電子衍射(RHEED)系統(tǒng)、RDA-003G、RDA-004P
                      • 熱脫附光譜儀(TDS/TPD)TDS1000 系統(tǒng) 程序升溫脫附光譜儀 表面科學(xué)分析
                      • 表面科學(xué)用超高真空系統(tǒng) XPS 分析儀 半球分析儀 AES、ISS、多通道 HREELS 緊湊型 LEED/AES 系統(tǒng) TDS1000 熱脫附系統(tǒng)

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