美國 Nonsequitur Technologies,離子槍1401 型,NTI 離子槍,電能 < 10kV,用于表面化學實驗,通用濺射

美國 Nonsequitur Technologies,離子槍1401 型,NTI 離子槍,電能 < 10kV,用于表面化學實驗,通用濺射

NTI 離子槍用于材料研究、表面分析和太陽風模擬等應用。它們是按訂單制造的,我們很樂意根據您的需求定制系統

電能 < 10kV

1401 型:通用濺射

1401 型非常適合用于表面化學實驗,例如使用 Auger 和 ESCA 進行樣品制備和深度剖析??膳c惰性氣體一起使用

  • 高電流密度 15 至 50 mA/cm2,具體取決于所選的光斑尺寸。

  • 獨特的離子源設計,發射穩定。

  • 雙鎢絲,典型鎢絲壽命> 500 小時。氧化釔涂層銥可選??筛鼡Q光束調整孔徑,典型使用壽命> 500 小時。

  • 制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料。

  • 差速泵送,以最大限度地減少主室氣體負載。

  • 噴槍易于拆卸進行維護。

  • 電氣連接和進氣口位于單個法蘭上,便于安裝。

  • 預設的提取和聚光鏡參數(三種光斑大小設置),可實現可重復操作。積分光束電流測量。

  • 直接測量離子源壓力。

  • 系統和電纜聯鎖裝置可防止在真空不良或電纜移除的情況下通電。

  • 電源和光柵發生器位于單個 51/4 高的 19 英寸機架安裝外殼中。

  • 數字生成的光柵選項,用于均勻的蝕刻輪廓。計算機控制選項??蛇x的離子源壓力調節

元件
描述
工作距離
25 毫米
光束能量
≤5KeV 無級變速
柵格大小
4 x 4 毫米(最?。?/div>
安裝法蘭
70 毫米(2.75 英寸)平底
差速泵送
70 毫米(2.75 英寸)Conflat
供氣入口
34 毫米(1.33 英寸)平底
源氣
He, Ne, Ar, Kr, Xe
烘烤溫度
最高 150 °C
輸入功率
115/220 伏交流電自動選擇操作。熔斷電流為 3.3A
光束能量
0 – 5000V 開關模式電源連續可變。O/P 電流:最大 1 mA。O/P 電容:0.0047 μF。
冷凝器
0 – 5000V 開關模式電源連續可變。O/P 電壓隨能量而變化。O/P 電流:最大 1 mA。O/P 電容:0.0047 μF
目標聚焦
0 – 5000V 開關模式電源連續可變。O/P 電壓隨能量而變化。O/P 電流:最大 1 mA。O/P 電容:0.0047 μF
燈絲功率
帶有前面板可選燈絲的輻射調節電源,最大電壓為 5 V @ 5A。
電子效應
內部可調的加速電壓和發射電流前面板計量。
離子萃取
內部可調至 1500V。
法拉第收集器
前面板瞬時開關允許通過面板安裝的顯示器監控光束電流。
撓度
可變雙極 350V 直流電源,用于 +X、-X、+Y 和 -Y 偏轉。其余的八極子元件由電阻分壓器網絡供電。
聯 鎖
HV 電纜斷開會關閉 HV 電源??烧{節的高壓聯鎖裝置可在系統超壓時關閉高壓電源。 系統和輔助聯鎖裝置可在系統或輔助設備發生故障時完全關閉。
前面板監控
數字面板儀表可對所有關鍵參數進行精確監控,包括;鏡頭電壓(41/2 位)、離子源壓力和束流(31/2 位)、燈絲電流和電壓(31/2 位)、發射電流(31/2 位)。
機箱尺寸
483(寬) x 132.5(高) x 435.4(深)毫米。19 英寸機架式桌面機箱 3U 高

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