Nonsequitur 銫離子槍 堿性離子槍設計特點

• 用戶可更換Frit離子源以產生各種離子
• 光斑可調 75um to >1mm for spatially defined sputtering
• 連續可變束流能量，最高 5keV
• 使用光束彎曲光學元件進行中性種抑制
• BTOF SIMS的光束消隱能力
• 集成束流監控能力
• 可選光束束電極
• 采用適合超高真空和耐蝕刻的材料
• 用于減小光斑尺寸的透鏡偏轉
• 差速泵，以盡量減少主腔室氣體負載