美國 Nonsequitur Technologies,離子槍,電能 < 10kV,1407 型,高電流密度光斑
離子槍
NTI 離子槍用于材料研究、表面分析和太陽風模擬等應用。它們是按訂單制造的，我們很樂意根據您的需求定制系統。
電能 < 10kV,1407 型：高電流密度點光源
離子槍 型號 1407
高電流密度光斑
Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍具有來自傳統電子碰撞電離源的雙等離子加速器級性能。應用包括俄歇或 SIMS 深度剖分，其中需要一個小凹坑以避免損壞相鄰樣品區域，以及 TEM/SEM 樣品制備。可達到的非常高的刻蝕速率也允許該色譜柱用于厚膜和微觀結構的切片
獨特的離子源，發射穩定
雙鎢合金細絲
UHV 結構
電源和偏轉電源集成在一個 51/4 19“ 機架安裝中
電氣連接和進氣口均位于外殼后部，簡化操作
元件 | 描述 |
|---|---|
光束能量 | 5eV 至 5000eV 連續可變 |
束流 | 最大 20μA @ 5keV 束能量 |
光斑尺寸 （FWHM） | 15μm @500nAkeV、20μm @2μA、75μm @20uA、5kV、10mm W.D. |
電氣 | 115/220V 50/60Hz 自動選擇 |
法蘭 | 4.50 或 6.00 CFF 用于安裝，2.75CFF 泵送，1.33 （34mm） CFF 進氣口。 |
