Nonsequitur 1401 型非常適合用于表面化學實驗，例如使用 Auger 和 ESCA 進行樣品制備和深度剖析。可與惰性氣體一起使用。

在 25mm 的工作距離下，該離子槍的電流為 20μA 射入直徑為 0.4mm 的光斑，可提供 10 倍于其他常用離子槍的電流密度。從前面板選擇光束電流為 1μA 時低至 50μm 的光斑尺寸。電子束能量在 5eV 到 5kV 之間變化，同時保持對樣品的最佳聚焦。光束電流可在很寬的范圍內獨立于光束電壓進行調節，并且無需外部設備即可從前面板進行測量。

離子是通過電子碰撞產生的，雙燈絲可延長離子源的使用壽命，而無需破壞系統。離子真空源細絲離軸，以防止細絲材料在視線上沉積到樣品上。離子源可以直接以差動方式泵入系統，也可以通過單獨的渦輪分子泵來提高系統真空度。

Nonsequitur Technologies1401離子槍帶有電源和掃描電子元件的控制器安裝在一個 5-1/4 英寸高的 19 英寸機架安裝機柜中。離子槍可以從前面板或通過靈活的界面進行控制，從而允許控制光束和聚焦電壓、電離電流、氣體、光束開/關和光柵。光柵掃描以數字方式生成，以實現均勻的刻蝕速率。

Nonsequitur Technologies1401離子槍特點：

• 高電流密度 15 至 50 mA/cm2，具體取決于所選的光斑尺寸。

• 獨特的離子源設計，發射穩定。

• 雙鎢絲，典型鎢絲壽命> 500 小時。氧化釔涂層銥可選。可更換光束調整孔徑，典型使用壽命> 500 小時。

• 制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料。

• 差速泵送，以最大限度地減少主室氣體負載。

• 噴槍易于拆卸進行維護。

• 電氣連接和進氣口位于單個法蘭上，便于安裝。

• 預設的提取和聚光鏡參數（三種光斑大小設置），可實現可重復操作。積分光束電流測量。

• 直接測量離子源壓力。

• 系統和電纜聯鎖裝置可防止在真空不良或電纜移除的情況下通電。

• 電源和光柵發生器位于單個 51/4 高的 19 英寸機架安裝外殼中。

• 數字生成的光柵選項，用于均勻的蝕刻輪廓。計算機控制選項。可選的離子源壓力調節。

Nonsequitur Technologies1401離子槍規格：