Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍具有來(lái)自傳統(tǒng)電子碰撞電離源的雙等離子加速器級(jí)性能。應(yīng)用包括Auger or SIMS 深度剖分，其中需要一個(gè)小凹坑以避免損壞相鄰樣品區(qū)域，以及 TEM/SEM 樣品制備。可達(dá)到的非常高的刻蝕速率也允許該色譜柱用于厚膜和微觀結(jié)構(gòu)的切片。

Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍其他應(yīng)用還包括：離子銑削/微加工和半導(dǎo)體散裝材料去除。離子產(chǎn)生是通過(guò)雙燈絲的電子碰撞電離實(shí)現(xiàn)的，無(wú)需打破系統(tǒng)真空即可延長(zhǎng)離子源壽命。該源旨在防止細(xì)絲材料在視線上沉積到樣品上。光學(xué)柱包括一個(gè)用于測(cè)量光束電流的一體式法拉第杯。光束掃描/偏轉(zhuǎn)是通過(guò)物鏡前的八極桿結(jié)構(gòu)完成的。這可以校正由于光束偏轉(zhuǎn)引起的散光。

Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍設(shè)計(jì)特點(diǎn)：

• 獨(dú)特的離子源，發(fā)射穩(wěn)定

• 雙鎢合金細(xì)絲

• UHV 結(jié)構(gòu)

• 電源和偏轉(zhuǎn)電源集成在一個(gè) 51/4 19“ 機(jī)架安裝中

• 電氣連接和進(jìn)氣口均位于外殼后部，簡(jiǎn)化操作

Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍設(shè)計(jì)規(guī)格：