Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍具有來自傳統電子碰撞電離源的雙等離子加速器級性能。應用包括Auger or SIMS 深度剖分，其中需要一個小凹坑以避免損壞相鄰樣品區域，以及 TEM/SEM 樣品制備。可達到的非常高的刻蝕速率也允許該色譜柱用于厚膜和微觀結構的切片。
Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍其他應用還包括：離子銑削/微加工和半導體散裝材料去除。離子產生是通過雙燈絲的電子碰撞電離實現的，無需打破系統真空即可延長離子源壽命。該源旨在防止細絲材料在視線上沉積到樣品上。光學柱包括一個用于測量光束電流的一體式法拉第杯。光束掃描/偏轉是通過物鏡前的八極桿結構完成的。這可以校正由于光束偏轉引起的散光。
Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍設計特點：
獨特的離子源，發射穩定
雙鎢合金細絲
UHV 結構
電源和偏轉電源集成在一個 51/4 19“ 機架安裝中
電氣連接和進氣口均位于外殼后部，簡化操作
Nonsequitur Technologies 1407 型離子槍設計規格：
元件 | 描述 |
|---|---|
光束能量 | 5eV 至 5000eV 連續可變 |
束流 | 最大 20μA @ 5keV 束能量 |
光斑尺寸 （FWHM） | 15μm @500nAkeV、20μm @2μA、75μm @20uA、5kV、10mm W.D. |
電氣 | 115/220V 50/60Hz 自動選擇 |
法蘭 | 4.50 或 6.00 CFF 用于安裝，2.75CFF 泵送，1.33 （34mm） CFF 進氣口。 |
