Nonsequitur 1401 型非常適合用于表面化學(xué)實(shí)驗(yàn)，例如使用 Auger 和 ESCA 進(jìn)行樣品制備和深度剖析。可與惰性氣體一起使用。

在 25mm 的工作距離下，該離子槍的電流為 20μA 射入直徑為 0.4mm 的光斑，可提供 10 倍于其他常用離子槍的電流密度。從前面板選擇光束電流為 1μA 時(shí)低至 50μm 的光斑尺寸。電子束能量在 5eV 到 5kV 之間變化，同時(shí)保持對(duì)樣品的最佳聚焦。光束電流可在很寬的范圍內(nèi)獨(dú)立于光束電壓進(jìn)行調(diào)節(jié)，并且無需外部設(shè)備即可從前面板進(jìn)行測量。

離子是通過電子碰撞產(chǎn)生的，雙燈絲可延長離子源的使用壽命，而無需破壞系統(tǒng)。離子真空源細(xì)絲離軸，以防止細(xì)絲材料在視線上沉積到樣品上。離子源可以直接以差動(dòng)方式泵入系統(tǒng)，也可以通過單獨(dú)的渦輪分子泵來提高系統(tǒng)真空度。

Nonsequitur Technologies1401離子槍帶有電源和掃描電子元件的控制器安裝在一個(gè) 5-1/4 英寸高的 19 英寸機(jī)架安裝機(jī)柜中。離子槍可以從前面板或通過靈活的界面進(jìn)行控制，從而允許控制光束和聚焦電壓、電離電流、氣體、光束開/關(guān)和光柵。光柵掃描以數(shù)字方式生成，以實(shí)現(xiàn)均勻的刻蝕速率。

Nonsequitur Technologies1401離子槍特點(diǎn)：

• 高電流密度 15 至 50 mA/cm2，具體取決于所選的光斑尺寸。

• 獨(dú)特的離子源設(shè)計(jì)，發(fā)射穩(wěn)定。

• 雙鎢絲，典型鎢絲壽命> 500 小時(shí)。氧化釔涂層銥可選。可更換光束調(diào)整孔徑，典型使用壽命> 500 小時(shí)。

• 制造中使用的所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料。

• 差速泵送，以最大限度地減少主室氣體負(fù)載。

• 噴槍易于拆卸進(jìn)行維護(hù)。

• 電氣連接和進(jìn)氣口位于單個(gè)法蘭上，便于安裝。

• 預(yù)設(shè)的提取和聚光鏡參數(shù)（三種光斑大小設(shè)置），可實(shí)現(xiàn)可重復(fù)操作。積分光束電流測量。

• 直接測量離子源壓力。

• 系統(tǒng)和電纜聯(lián)鎖裝置可防止在真空不良或電纜移除的情況下通電。

• 電源和光柵發(fā)生器位于單個(gè) 51/4 高的 19 英寸機(jī)架安裝外殼中。

• 數(shù)字生成的光柵選項(xiàng)，用于均勻的蝕刻輪廓。計(jì)算機(jī)控制選項(xiàng)。可選的離子源壓力調(diào)節(jié)。

Nonsequitur Technologies1401離子槍規(guī)格：