消除苛刻的等離子體，酸，化學蝕刻，以實現親水性原子清潔表面，UV臭氧清潔晶圓，玻璃，硅，UV鍵，氧化，清潔SEM TEMAFM樣品和探針，鍵合PDMS，幻燈片蓋等。

PSD, PSDP和熱系列紫外線臭氧清潔劑:用于átomically清潔表面，紫外線氧化，紫外線殺菌和紫外線熱處理

介紹:PSD, PSDP和熱系列紫外臭氧清洗機

Novascan的UV – UV臭氧清洗劑廣泛應用于工業，生產和學術實驗室，用于UV清潔半導體晶圓，制造過程中的UV清潔LCD表面，去除和去除光刻膠，改善表面潤濕性，UV清潔AFM探針/尖端，UV清潔SEM和TEM樣品，UV聚合物活化，PDMS/玻璃微流控裝置的組裝/粘合，UV清潔玻璃和許多其他UV臭氧清潔和氧化應用。(以下是典型應用的列表。)

Novascan UV臭氧清潔劑已被證明是非常有效的非酸性，干燥，非破壞性的原子清潔和去除有機污染物使用強烈的185 nm和254 nm紫外線。在氧氣存在的情況下，185線產生臭氧，而254線激發表面的有機分子。這種組合驅動了有機污染物的快速破壞和大量減少。

為了進一步加強處理，PSDP-UVT紫外線臭氧清潔劑利用紫外線臭氧和熱階段，通過提高樣品表面的能量狀態，并通過驅動可以阻止氧化的濕度層，以達到更積極的效果。

如下圖所示，AFM用于記錄使用簡單的室內空氣作為氧氣源(純氧氣可用于更可控和更積極的處理)的暴露時間對厚有機污染物的去除。此外，接觸角實驗表明，紫外線臭氧處理后表面潤濕性顯著改善。

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案例研究1:“新”玻片和蓋蓋表面通常在開箱后不干凈。使用Novascan UV臭氧清潔劑，只需室內空氣，即可輕松快速地將表面清潔到原子水平。

案例研究2:使用NovascanUV臭氧清洗機進行原子清洗前后受污染玻璃載玻片表面的AFM研究(注意，最后一張AFM圖像中的數據是自動縮放的，以顯示玻璃顆粒)

Novascan紫外線臭氧清潔劑:常用材料

• 紫外線清潔玻璃
• 紫外線清潔硅
• 紫外線清潔砷化鎵
• UV清潔ITO
• UV清潔石英
• 紫外線清潔云母
• UV清潔藍寶石
• 紫外線氧化金屬
• UV清潔陶瓷
• UV激活聚合物和交聯聚合物
• UV條光抗蝕劑/光抗蝕劑
• UV清潔晶圓片
• 紫外線清潔生產線LED顯示屏
• UV清潔玻璃載玻片和玻璃蓋
• UV清潔金表面
• UV清潔鉑表面
• UV激活PDMS用于微流體組件

Novascan紫外線臭氧清潔劑:常用應用

• 使用紫外臭氧原子清潔半導體硅晶圓
• 消除對人體和環境有害的酸洗和化學浴清洗方法
• 使疏水表面更親水
• 快速和簡單的方法清潔AFM, SEM和TEM樣品，表面和探針UV臭氧
• 原子清潔玻璃側面和蓋子
• 細胞培養及細胞粘附表面制備
• 力譜學研究的準備
• 半導體表面UV氧化及制備
• 用于制造LED顯示屏
• 清潔敏感鏡片和光學元件
• 增加表面潤濕性后，紫外線臭氧清洗
• 增強油漆、涂料、膠水和粘合劑的附著力
• 紫外線臭氧清洗石英和陶瓷表面
• UV臭氧改善薄膜沉積質量
• 紫外線(UV)固化和交聯的聚合物和粘合劑
• UV表面圖案化
• UV蝕刻和表面UV氧化
• 一種有效的、非破壞性的、非真空的等離子清潔替代品
• UV臭氧清洗劑用于烷硫醇、APTES、硅烷化等表面化學的制備
• 紫外臭氧熱處理