Novascan,PSD,PSDP,Thermal系列,紫外臭氧清洗機

PSD、PSDP 和 Thermal 系列紫外線臭氧清潔器：

用于原子級清潔表面、紫外線氧化、紫外線滅菌和紫外線熱處理

簡介：PSD、PSDP 和 Thermal 系列紫外線臭氧清潔器

Novascan 的紫外線臭氧清潔器在工業、生產和學術實驗室中得到了廣泛應用和高度認可。它們用于紫外線清潔半導體晶圓、紫外線清潔液晶顯示器表面、去除和剝離光刻膠、改善表面潤濕性、紫外線清潔 AFM 探針/尖端、紫外線清潔 SEM 和 TEM 樣品、紫外線聚合物激活、PDMS/玻璃微流控設備的組裝/粘合、紫外線清潔玻璃等一系列紫外線臭氧清潔和氧化應用。（請參見下文典型應用列表。）

Novascan 紫外線臭氧清潔器通過使用強烈的185 nm 和 254 nm 紫外線光進行非酸性、干燥、非破壞性的原子級清潔和去除有機污染物，已證明其效果顯著。在氧氣存在下，185 nm 光線產生臭氧，而254 nm 光線激發表面的有機分子。這種組合可以迅速破壞和消滅有機污染物。

為了進一步增強處理效果，PSDP-UVT 紫外線臭氧清潔器利用紫外線臭氧和熱處理階段，通過提升樣品表面的能量狀態并驅除可能阻礙氧化的濕氣層，實現更強效的清潔效果。

如圖所示，使用 AFM 記錄了有機污染物厚層的去除情況，曝光時間使用了簡單的室內空氣作為氧氣來源（純氧氣可用于更受控和更強效的處理）。此外，接觸角實驗顯示了紫外線臭氧處理后表面潤濕性的顯著改善

PSD 和 PSPD 系列紫外線清潔器 – 高性能紫外線臭氧清潔器： 紫外線臭氧清潔系統，尺寸從 4×4 英寸到 12×16 英寸 … 或根據特殊訂單提供更大尺寸。

新產品 頂部和底部雙燈紫外線清潔系統，適用于晶圓及其他表面。請咨詢。

PSDP-UVT 系列熱紫外線臭氧清潔器 – 高性能熱紫外線臭氧清潔器： 帶有加熱階段和 PID 溫控的紫外線臭氧清潔系統

案例研究 1： “全新”的玻璃載片和蓋玻片表面通常在出廠時并不干凈。使用 Novascan 紫外線臭氧清潔器，僅用室內空氣就可以輕松快速地將表面清潔到原子級別

Novascan 紫外線臭氧清潔器：常見材料

• UV 清潔玻璃
• UV 清潔硅
• UV 清潔砷化鎵
• UV 清潔 indium tin oxide（ITO）
• UV 清潔石英
• UV 清潔云母
• UV 清潔藍寶石
• UV 氧化金屬
• UV 清潔陶瓷
• UV 激活聚合物和交聯聚合物
• UV 去除光刻膠
• UV 清潔晶圓
• UV 清潔生產線 LED 顯示屏
• UV 清潔玻璃載片和玻璃蓋玻片
• UV 清潔金表面
• UV 清潔鉑表面
• UV 激活 PDMS 用于微流體裝配

Novascan 紫外線臭氧清潔器：常見應用

• 使用 UV 臭氧對半導體硅晶圓進行原子級清潔。
• 消除對人體和環境有害的酸性和化學浴清潔方法。
• 使疏水表面變得更親水。
• 快速簡便地清潔 AFM、SEM 和 TEM 樣品、表面及探針。
• 對玻璃載片和蓋玻片進行原子級清潔。
• 細胞培養和細胞粘附表面準備。
• 為力譜研究做準備。
• 半導體表面的 UV 氧化和準備。
• LED 顯示屏制造。
• 清潔敏感鏡頭和光學設備。
• UV 臭氧清潔后提高表面濕潤性。
• 增強涂料、涂層、膠水和粘合劑的附著力。
• UV 臭氧清潔石英和陶瓷表面。
• UV 臭氧提升薄膜沉積質量。
• 聚合物和粘合劑的紫外線 (UV) 固化和交聯。
• UV 表面圖案化。
• UV 蝕刻和表面 UV 氧化。
• 有效的非破壞性、無真空替代等離子體清潔。
• UV 臭氧清潔器用于烷基硫醇、APTES、硅烷化及其他表面化學處理。
• UV 臭氧熱處理

樣本參考文獻：Novascan 紫外線臭氧清潔器

• 低溫鍵合 PMMA 和 COC 微流控基底使用 UV/臭氧表面處理
  Lab Chip, 2007, 7, 499 – 505
  C. W. Tsao, L. Hromada, J. Liu, P. Kumar 和 D. L. DeVoe
• 在光盤聚碳酸酯表面上制造 DNA 微圖案
  Nanoscale Research Letters, Volume 2, Number 2/February 2007, 頁 69-74
  Zhen Wang 和 Rong-Xian Li
• 心臟細胞單層的再入的結構相關啟動
  Circ. Res. 在線發布于 2006 年 2 月 9 日
  Weining Bian 和 Leslie Tung
• 使用原子力顯微鏡成像低密度脂蛋白的方法
  Microscopy Research and Technique, Volume 70, Issue 10, 頁 904 – 907
  Julie A. Chouinard, Abdelouahed Khalil, Patrick Vermette
• 使用彈性體基礎的單個壓電驅動器微節流泵的微流控固相懸浮運輸
  Lab Chip, 2005, 5, 318 – 325
  D. Johnston, M. C. Tracey, J. B. Davis 和 C. K. L. Tan
• 使用位移放大的彈性體基底的微節流泵
  J. Micromech. Microeng. 15 1831-1839
  I D Johnston, M C Tracey, J B Davis 和 C K L Tan
• 具有彈性體閥的連續可變混合比微混合器
  J. Micromech. Microeng. 15 1885-1893
  Christabel K L Tan, Mark C Tracey, John B Davis 和 Ian D Johnston
• 鎳-錳合金電鍍過程中產生的應力
  J. Appl. Phys. 99, 053517 (2006)
  Sean J. Hearne, Jerrold A. Floro, Mark A. Rodriguez, Ralph T. Tissot, Colleen S. Frazer, Luke Brewer, Paul Hlava 和 Stephen Foiles
• 用原子力顯微鏡研究薄聚苯乙烯膜的磨損初期階段
  2005 Nanotechnology 16 1213-1220
  M Surtchev, N R de Souza 和 B Jér?me
• 在旋涂膜中低帶隙聚氟烯/PCBM 混合物的垂直相分離—特定基底相互作用的影響
  Applied Surface Science Volume 253, Issue 8, 2007 年 2 月 15 日, 頁 3906-3912
  Cecilia M. Bj?rstr?m, Svante Nilsson, Andrzej Bernasik, Andrzej Budkowski, Mats Andersson, Kjell O. Magnusson 和 Ellen Moons
• 用于生物技術的多孔微機械懸臂陣列讀取器
  Rev. Sci. Instrum. 78, 084103 (2007)
  R. Zhang, A. Best, R. Berger, S. Cherian, S. Lorenzoni, E. Macis, R. Raiteri 和 R. Cain
• BSA 垂直層的 AFM 研究
  Applied Surface Science Volume 253, Issue 23, 2007 年 9 月 30 日, 頁 9209-9214
  Michal Tencer, Robert Charbonneau, Nancy Lahoud 和 Pierre Berini
• 神經節苷脂 GM1 對磷脂膜的凝聚和流化效應
  Biophys. J. BioFAST: 2008 年 1 月 11 日首次發表
  Shelli L Frey, Eva Y Chi, Cristobal Arratia, Jaroslaw Majewski, Kristian Kjaer 和 Ka Yee C Lee
• 使用平面高表面能導向器在溶劑親和表面上限制和沉積溶液滴
  Lab Chip, 2007, 7, 483 – 489
  Michal Tencer, Robert Charbonneau 和 Pierre Berini

書籍參考文獻：紫外線臭氧清潔器

• 《生物醫學中的微型設備》
  Yaakov Nahmias, Sangeeta Bhatia – 2009 – ISBN=1596934050
  替代方法：使用商業紫外線-臭氧（UV O3）源可以與下面所述的效果相同。 1.4.2.1 設備鍵合（使用 UV O3 表面處理） 1. 打開 UV O3 機器的蓋子（Novascan PSD-UV 或 Jelight UV O3 42）
• 《微流控生物分析與高靈敏度質譜的接口》
  Chia-Wen Tsao – 2008 – ISBN=0549576304
  評估 UV/O3 表面處理作為一種有效的低溫聚合物微流控基底鍵合的方法。… 商業臭氧清潔系統（PSD-UV，Novascan Technologies, Ames, IA）
• 《半導體器件制造中的清潔與表面處理技術》
  T. Hattori, T. Hattori, J. Ruzyllo, R. Novak, P. Mertens, P. Besson, J. Ruzyllo – 2009 – ISBN=1566777429
  UV O3 + 10 分鐘。 UV O3 C-C, C-H C-O C=O 275 280 285 290 295 300 結合能（eV）原始 PR PMOS PR + 5” 燒灼 + 15” … 4 顯示窄的光刻膠線條易于去除，而較大的光刻膠區域則不容易清潔。
• 《芯片實驗室技術：制造與微流控》
  K. E. Herold, Avraham Rasooly – 2009 – ISBN=1904455468
  最近，結合 UV 光和光生氧自由基的表面處理已顯示出…（Plaskolite） ? PSD-UV 臭氧清潔系統（Novascan Technologies） A B ? 真空烘箱（Sheldon Manufacturing）
• 《MEMS 材料與工藝手冊》
  Reza Ghodssi, Pinyen Lin – 2011 – ISBN=0387473181
  將干凈的硅基底（表面無顆?；蛭廴荆┓湃?UV O3 清潔器中，基底表面距離光源約 2 毫米，暴露 15 分鐘。 b. 移除硅基底，并類似地放置 PDMS …
• 《半結晶聚噻吩中的微觀結構和電荷傳輸》
  Leslie Hendrix Jimison – 2011
  在薄膜沉積之前，清潔的表面經過 UV 臭氧處理（Novascan, PSD-UV, UV 表面污染系統）。此時，基底可以準備進行聚合物沉積或其他表面處理。
• 《化合物半導體的最先進程序 47》
  J. Wang – 2007 – ISBN=156677571X
  GaN 基底通過兩種方式進行清潔，浸泡在 50% HCl 中 1 分鐘（HCl 處理的 GaN），然后使用 Novascan PSD-UVT UV-臭氧系統進行 30 分鐘的 UV-O3 處理（O3 處理的 GaN）。HCl …
• 《表面、排序和脂質/聚合物系統的活性》
  Shelli Lynne Frey – 2008 – ISBN=0549740295
  使用的探針（Veeco Probes, Woodbury, NY），標稱彈簧常數為 0.32 N/m；在取樣之前，探針表面經過 UV 生成的臭氧清潔（PSD-UV 表面去污系統，Novascan, Ames, IA）
• 《表面定制：用于摩擦學、生物學和催化應用的表面成分和結構修改》
  Nicholas D. Spencer – 2011 – ISBN=9814289426
  掃描電子顯微鏡圖像顯示 Novascan AFM 懸臂上的 SiO2 膠體微球作為探針，在使用后… 在進行力學測量之前，懸臂在 UV/臭氧清潔器中清潔了 30 分鐘（UV/ Clean，型號…）
• 《薄膜中的圓形納米域表征》
  Helene C. Maire – 2008 – ISBN=0549967222
  使用 Novascan PSD-UVT UV-臭氧系統在氬氣氣氛下 λ=250nm 進行 80 分鐘的 PMMA 域降解，經過 20 分鐘的氬氣清潔室排氣。在 UV 曝露期間，PS 域…
• 《細胞成像技術：方法與協議》
  Douglas J. Taatjes, Brooke T. Mossman – 2006 – ISBN=1592599931
  可選的臭氧/紫外線（紫外線）去污染室（例如 Ozone PSD-II；Novascan Technologies, Ames, IA）用于清潔和重復使用昂貴的定制 AFM 探針。 2.3. AFM 系統 1. 兼容原子力顯微鏡的…

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