Photonetc超高光譜成像儀GRAND-EOS ™
GRAND-EOS將高光譜顯微鏡系統與高光譜寬視場成像平臺相結合，可訪問具有VNIR（400-1000 nm）和
SWIR（900-1620 nm）范圍的微觀和宏觀模式。
特點
- 連續可調
- 從400 nm到1620 nm的靈敏度
- 非分散技術
- 高性能CCD
- 電動對焦
- 控制和分析軟件
規格表：
| 性能 | ||
| 光譜通道?? | 連續可調 | |
| 光譜范圍? | 400-1620納米 | |
| 光譜分辨率 ? | 近紅外 <2.5納米（400-1000納米） | 短波紅外 <4納米（900-1620納米） |
| 空間分辨率? （以10倍顯微鏡為目標）? | <7.5微米 | <12微??米 |
| 卡梅拉 | sCMOS和InGaAs | |
| 樣品夾? | XY手動平移臺（行程50毫米） | |
| 波長調整速度? | 60 nm穩定時間，步長為2 nm | |
| 波長絕對精度? | <0.3納米 | |
| 可視化相機? | 單色或彩色XMP相機 2/3英寸5.1M逐行彩色CMOS / 2448 x 2048像素 | |
| 預處理? | 空間濾波，統計工具，頻譜 提取，數據歸一化， 頻譜校準 | |
| 超光譜數據格式? | HDF5，??FITS | |
| 單圖像數據格式? | FITS，PNG，TIFF，JPG | |
| 操作系統? 軟件? | Windows 7（64位） PHySpec™?軟件 | |
| 宏成像模式 | ||
| 視場? | 從20 x 20毫米優化到160 x 160毫米 | |
| 微成像模式 | ||
| 顯微鏡 ? | 直立或倒立 | |
| 目標 ? | 5X，10X（可 根據要求提供其他放大倍率） | |
| 照明? | 通過光導可提供寬帶和單色照明 | |
| ?激發? | 532 nm，660 nm，785 nm或808 nm激光器。 可根據要求提供其他波長 | |
