IMA 高光譜成像儀，Photon高光譜拉曼成像系統IMA，超快高光譜成像儀，高光譜顯微鏡平臺
IMA™高光譜顯微鏡平臺可提供同樣高的光譜和空間分辨率。將這個模塊化系統配置為快速掃描VIS，NIR和/或SWIR光譜，同時繪制光致發光，電致發光，熒光，反射率和/或透射率的組合。每個IMA™都配備了高通量的全局成像濾鏡；這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統更快地測量百萬像素超立方體。
IMA超快高光譜成像儀主要應用：
- 執行復雜的材料分析，例如太陽能電池表征和半導體質量控制（例如：鈣鈦礦，GaAs，SiC，CIS，CIGS等）。
- 在復雜的環境（包括活細胞和組織）中研究IR標記。以在第二生物窗口中發射的IR熒光團的光譜異質性為例。
- 檢索暗場圖像并獲得透明和未染色樣品（例如聚合物，晶體或活細胞）的對比度。
IMA 高光譜拉曼成像系統主要特征：
- 快速全局映射（非掃描）
- 高空間和光譜分辨率
- 完整的系統（源，顯微鏡，相機，濾鏡，軟件)
- 無損分析
- 可定制
- 可見光范圍從400到1200 nm，SWIR范圍從900 nm到1700 nm
IMA 高光譜拉曼成像儀主要技術參數：
| 光譜范圍 | VIS – SWIR Model 400 – 1620 nm | |
|---|---|---|
| VIS 400-1000 nm | SWIR 900-1620 nm | |
| 光譜分辨率 | < 2 nm | < 4 nm |
| 相機 | CCD, EMCCD, sCMOS | ZephIR 1.7 |
| 激發波長 (最多 3 個激光) | 405, 447, 532, 561, 660, 730, 785 or 808 nm | |
| 顯微鏡 | 直立或倒立；科學級 | |
| 空間分辨率 | 亞微米 (limited by the microscope objective N.A.) | |
| 最大樣品尺寸 | 10 cm x 10 cm | |
| X, Y 行程范圍 | 76 mm x 52 mm | |
| Z-階段分辨率 | 100 nm | |
| 照明 照明選像 | 透射，LED，HG，落射 熒光模塊，暗場模塊 | |
| 波長絕對精度 | 0.25 nm | |
| 視頻模式 | 百萬像素相機用于樣品可視化 | |
| 數據處理 | 空間過濾，統計工具，頻譜提取，數據歸一化，頻譜校準，疊加，中心位置圖等 | |
| 超光譜數據格式 | HDF5, FITS | |
| 單圖數據格式 | HDF5, CSV, JPG, PNG, TIFF | |
| 軟件 | PHySpec™ 控制和分析（包括計算機） | |
| 尺寸 | ??150 cm x 85 cm 82 cm | |
| 重量 | ? 80 kg | |