HEXAR 是一款寬束離子源，專為真空環境下的表面處理而設計。
HEXAR 是一種可擴展的概念，能夠制造出適用于處理各種表面尺寸的離子源。
典型應用包括離子束蝕刻、表面清潔、離子輔助沉積和離子束濺射沉積。
原理
HEXAR 由微型微波腔的六邊形排列組成，每個微型微波腔在超低射頻功率（每個腔在 2.45GHz 頻率下功率為幾瓦）下進行電子回旋共振（ECR）放電。這種方法之所以成功，是因為 ECR 等離子體具有可靠性和穩定性，而且該源沒有耗材。此外，它能夠以標準寬束源無法實現的方式控制束流的電流密度分布。通過氣流、光學元件和施加的射頻功率的組合，電流密度分布的形狀和幅度都可以改變。
可擴展技術
HEXAR 基于一個可擴展原則：可處理的表面積會隨著所使用的腔室數量增加而增大。如果您對更大表面的離子處理感興趣，請聯系我們。您也可以查看我們的定制束流解決方案頁面，了解我們的多腔室方法所帶來的其他可能性。
非導電基底離子處理用中和器
可使用中和器來避免表面電荷積累。Polygon Physics 公司提供一款基于電子回旋共振（ECR）的電子源作為中和器，該中和器無需燈絲等耗材。此中和器采用與 HEXAR 相同的緊湊型 ECR 技術，由單個微波腔構成，其功率足以完全抵消正離子電流。
應用
不同的應用需要不同的束流特性。HEXAR 寬束電子回旋共振源可以通過調整束流光學系統以及改變每個腔室所施加的射頻功率，來滿足不同的應用需求。而且，在設計初期，還可以通過改變構成離子源的腔室數量，針對特定的樣品尺寸進行定制。典型的應用包括：
?蝕刻
?清洗
?表面改性
?離子輔助沉積
?離子束濺射沉積
技術數據
源模塊配備 19 英寸機架式電子設備、SMA 和高壓電纜、電源線以及 USB 軟件。不包括源氣體、源冷卻系統（世偉洛克 6 毫米）和個人電腦。HEXAR 可根據您的特定需求定制。
