Prevac沉積系統、磁控濺射系統、032PRIMS基本MS系統

Prevac沉積系統、磁控濺射系統、032PRIMS基本MS系統

簡單和全功能的濺射沉積裝置，用于可復制的薄膜層的應用。?即插即用緊湊的設計.?

該處理室?包含3個磁控濺射源端口(用于金屬和無機物)，安裝在濺射配置中。最多同時使用兩個源(共沉積)基底臺用于直徑不超過2英寸的樣品，帶有加熱和旋轉選項。

特征

  • 插頭和工作結構?
  • 易于使用的移動裝置，用于快速測試和濺射涂層
  • 處理室帶有l大型真空門為了容易更換目標或襯底?
  • 裝有MS2 100 ISO-K磁控管源和新奇M600DC-PS電源
  • 基底臺用于最多2個”直徑樣品
  • 處理室直徑:355毫米?
  • 3個端口對于2英寸磁控管源?
  • 1個視窗–帶百葉窗的觀察窗?
  • 保護罩防止交叉污染?
  • 基底壓力范圍10-7?毫巴(millibar壓力單位)?
  • 快速泵送系統隨著真空計?
  • 氬氣自動加藥通過質量流量控制
  • A車輪上的剛性主車架便于系統的放置
  • 手動節流閥

這快速泵送系統(帶手動節流閥)與小體積的處理室相結合，使您能夠在短時間內達到基礎壓力。

這加工室配有高壓標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括:?

  • 多達3個磁控管源?2”,
  • 襯底操縱器，
  • 泵送系統m，
  • 防止交叉污染的保護罩，
  • 石英平衡，
  • 視口–帶百葉窗的觀察窗，
  • 真空計，
  • py羅梅特。
ApplicationsExamples
Single and multilayer conductor films (for microelectronics and semiconductor devices)?Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au?
Barrier layers for semiconductor metallizations?TiN, W-Ti?
Magnetics films?Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si??
Optical coatings – metallic (reflective)?Cr, Al, Ag?
Optical coatings – dielectric?MgO, TiO2?, ZrO2?
Photomasks?Cr, Mo, W?
Transparent gas/vapor permeation barriers?Al2O3
Transparent electrical conductors?InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO)?

Related posts