沉積過程控制器DPC10
用于沉積過程控制的新型電子裝置。同時(shí)操作兩個(gè)獨(dú)立的源/室。
DPC10沉積過程控制器是為物理氣相沉積過程控制而設(shè)計(jì)的先進(jìn)和完整的電子設(shè)備。DPC10監(jiān)測和控制薄膜沉積的速率和厚度。從放置在處理室中的石英的頻率變化計(jì)算沉積的速率和厚度。用戶編程的設(shè)備可以以精確和可重復(fù)的方式控制沉積過程。
用戶通過選擇/輸入定義過程的參數(shù)，經(jīng)由前面板觸摸屏與裝置互動(dòng)。該設(shè)備執(zhí)行用戶用圖形編輯器創(chuàng)建的任何配方。此外，DPC10可與任何電壓控制沉積源電源(通過模擬接口)一起工作，并可控制襯底加熱過程。
整個(gè)系統(tǒng)由一個(gè)DPC10主電子單元、一個(gè)真空計(jì)和一個(gè)用于每個(gè)石英晶體的TM13/14厚度監(jiān)視器組成。
特征
- 專為沉積過程自動(dòng)化而設(shè)計(jì)
- 兩個(gè)獨(dú)立的過程循環(huán)
- 易于操作配方編輯器帶圖形界面
- 可與任何電壓控制(通過模擬接口)的沉積源電源配合使用
- 控制蒸發(fā)速率和厚度
- 控制襯底加熱過程
- 配備快速CPU和7英寸觸摸屏
- 常用材料的收藏夾列表
- 2D實(shí)時(shí)圖表模塊
| Supply voltage | 100-240 VAC, 50/60 Hz (power consumption max 43 W) |
| Inputs | 2 analog inputs (0-10V) 12 digital inputs |
| Outputs | 6 analog outputs (0-10V) 16 digital outputs |
| Supported?thickness monitors | TM13: 0.1 Hz |?TM14: 0.01 Hz |
| Thickness | 0 – 9999000 ? |
| Rate | 0 – 9999 ?/s |
| Frequency range | 2-6 MHz |
| Thickness resolution | TM13: 0.1 ? |?TM14: 0.01 ? |
| Rate resolution | TM13: 0.1 ?/s |?TM14: 0.01 ?/s |
| Frequency stability | TM13: 0.5 ppm |?TM14: 0.5 ppm |
| Tooling factor | 1 – 400% |
| ?? Measurement units | ?, k?, nm |
| Measurement period | 100 ms – 2 s (depend on TM type) |
| Shutter control | manual, time, thickness |
| Shutter time | 1 – 1000000 s |
| Supported?active gauges | CTR90, TTR91, TTR211, PTR225, PKR251/360/361, PCR280, TPR280/281, PTR90, ITR90, ITR100, Baratron, ANALOG IN, PG105, ATMION, IKR360/361 |
| ?? Measurement units | mbar, Pa, Torr, Psia |
| Communication interface | RS232/485, Ethernet |
| User interface | 7″ TFT display with touchscreen |
| Interface language | English |
| Dimensions | 212.6 x 128.4 x 266.1 mm (W x H x D) |
| Weight (approx.) | 2.1 kg |
