PREVAC標準PLD系統包括一個沉積處理室和一個負載鎖定室，可輕松快速地裝載襯底。?

脈沖激光沉積(PLD)獨立系統適合f的生長鐵磁薄膜,?陶瓷氧化物、高溫超導材料、金屬多層膜等等。?

特征

• 滿足PLD生長工藝領域大多數研究需求的通用解決方案
• 適合f的生長鐵磁薄膜,?陶瓷氧化物、高溫超導材料、金屬多層和其他
  
• 垂直的PLD工藝幾何
• 激態原子或者釔鋁石榴石(yttrium aluminum garnet)具有激光束驅動系統的激光器
• 1-4軸，電動或手動，襯底操縱器接收站能夠達到高達1400°C的高溫(具有由固體SiC制成的穩定、長壽命的加熱元件)
• 不同的基板支架尺寸:從10×10毫米到2英寸
• 六位置目標操縱器利用原位目標交換系統
• 目標持有者尺寸:1或2英寸
• 全自動或手動靶和襯底轉移系統
  
• 離子源帶有用于清洗、蝕刻或活化襯底表面的電源
• 基底壓力從1×10^-8至5×10^-11毫巴，?取決于泵系統?
• 加工室490毫米，帶附加端口
• 泵送系統(基于前級泵、TMP、離子泵和TSP)
• 帶設備的真空計
• 石英天平用于沉積速率測量和厚度監控，用Z操縱器測量焦點處的速率
• 負載鎖定室對于樣品架和目標
• 可靠且快速線性傳輸系統從裝載鎖到處理室
• 視窗–帶快門的觀察窗
• 烘烤前帶有集成排放管線的水冷卻系統
• 烘烤系統?
• 該系統的可調剛性主框架?
• 帶電子設備的19英寸機柜

描述

這加工室包含6個目標和一些用于在襯底上沉積的材料。該載物臺用于直徑最大為2英寸的樣品，具有冷卻/加熱和旋轉選項。自動或手動PLD系統可以輕松地將目標和襯底從裝載鎖轉移到PLD操作站。?

工藝室配有UHV標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括:?

• 激光
• 具有溫度范圍的襯底操縱器，
• 目標操縱器，
• 具有用于清洗、蝕刻或活化襯底表面的電源的離子源，
• 泵送系統(基于備用泵、TMP、離子泵和TSP泵)，
• 帶設備的真空計，
• 線性傳送系統的入口，例如來自裝載鎖、徑向分配室、傳送隧道或運輸箱的入口，
• 帶Z機械手的石英天平，
• RHEED/torrheed與設備，
• 用于相鄰層或掩模的電動或手動快門(跟隨襯底),
• 額外的氣體定量給料例如對于反應沉積過程，
• 視窗–帶百葉窗的觀察窗，
• 殘余氣體分析儀，
• 光束通量監視器，
• 診斷設備的加熱視窗。

最終設計和功能取決于系統配置。?

如果需要的話標準設計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺結合和集成。?

A?抽水系統結合處理室的標準容積，允許達到1×10-6范圍內的基礎壓力^-8?– 5×10^-11毫巴，取決于泵的配置。泵送系統是不同類型泵的組合，例如預真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪泵或鈦升華泵，根據具體應用需求單獨選擇以實現最佳泵送性能。?

合成過程控制軟件允許各種類型的來源和制造商的集成和完美合作，并實現簡單的配方編寫、自動化生長控制和廣泛的數據記錄。允許集成基于Tango開源設備的新的附加組件。

該系統配備先進，易于使用電力供應和電子設備控制和支持來源和整個包括研究設備。