用于UHV環境中光電子能譜實驗的分析系統，樣品溫度可控。

獨立系統適用于分析多種納米材料。該系統包括一個分析室和一個裝載鎖定室，用于簡單快速地裝載基片。與分析室的標準容積相結合的泵系統允許達到低至10的基礎壓力^-11毫巴，取決于泵的配置。

特征

• 滿足以下領域大多數研究需求的標準解決方案XPS / UPS / ARPES / AES /電子發射器定位系統/ ISS / IPES /萊普斯技術
• 全自動化實驗程序?
• 垂直或水平樣品方向?
• 半球能量分析器EA15 UHV帶設備?
• 高功率雙陽極帶單色儀的x射線源–alkα& aglα，有電源的
• 高功率雙陽極，非單色x射線源–AlKα & MgKα，有電源的
• 紫外線源有電源的
• 洪水源頭有電源的
• 離子源用于深度剖析或者打掃衛生
• 電動或手動4-6軸?操作者,接收站能夠實現從左/右₂到高達的高溫1400攝氏度
• 不同的樣品架尺寸:從10×10毫米到1英寸
• 分析室直徑310毫米
• 基底壓力降到了10分^-11毫巴，取決于泵的配置
• 泵送系統(基于備用泵、TMP、離子泵和TSP)
• 帶設備的真空計
• 負載鎖定室對于樣品架
• 可靠且快速線性傳送系統從裝載鎖到分析室
• 視窗–觀察窗口
• 烘烤系統?
• 該系統的可調剛性主框架?
• 帶電子設備的19英寸機柜
• 完全受控的分析過程和設備經過Spectrium軟件和PLC單元

描述

這分析室配有UHV標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括:

• 帶設備的半球能量分析器，
• 具有電源的x射線雙陽極單色源，
• 帶電源的x射線雙陽極非單色源，
• 帶電源的UV單光源，
• 具有電源的紫外線源，
• 具有電源的洪水源，
• 具有電源的電子源，
• 具有用于深度剖析或清潔的電源的離子源，
• 具有電源的氣體團簇離子源，
• 具有寬溫度范圍的樣品操縱器(從LHe/LN₂高達1400攝氏度)，
• 泵組(基于備用泵、TMP、離子泵和TSP，具有大面積LN₂裹尸布)，
• 帶設備的真空計，
• 線性傳輸系統的入口，例如從裝載鎖到分析室，
• 用于樣品架的負載鎖定室，
• LEED帶著裝備，
• IPES /萊普斯與設備、
• 視窗–觀察窗，
• 殘余氣體分析儀。

最終設計和功能取決于系統配置。?

A?抽水系統是不同類型泵的組合，例如預真空泵、離子泵、渦輪泵或鈦升華泵，具有巨大的面積LN₂護罩，根據具體應用需求單獨選擇，以實現最佳泵送性能。?

如果需要，系統的標準設計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸通道與任何其他研究平臺結合和集成。?

光譜分析控制軟件允許半球能量分析器和各種類型的源的集成和完美配合，從而實現簡單的配方編寫、自動測量控制和廣泛的數據記錄。允許集成新的附加組件，基于Tango開源設備.?

光電發射光譜學是一種實驗技術，也是電子光譜學的主要變體。該方法基于光電現象和對光電子動能分布的分析。發射的能量來自表面樣品的電磁輻射激發。?

PES技術是薄層表面測試和檢查最常用的方法。它提供了以下信息:定量成分、原子鍵特征、層厚度?；具^程(光電效應)測量光子照射物質產生的光電子發射。?

包括PES分析技術:?

• 波段移相器（同 X-band phase shifter）–X射線光電子能譜?
• 哈克斯佩斯–硬X射線光譜學?
• 不間斷電源–紫外光電子能譜學?
• 阿爾佩斯–角度分辨光電發射光譜?

其他技術:?

• IPES–逆光電發射光譜?
• 萊普斯–低能反向光電子能譜?
• 俄歇電子能譜–俄歇電子光譜?
• 電子發射器定位系統–電子能量損失光譜學?
• 出版（issue的簡寫）–離子散射光譜?