用于沉積過程控制的新型電子單元。同時操作兩個獨立的離子源/腔室。

DPC10 沉積過程控制器是一種先進且完整的電子設備，專為物理氣相沉積過程控制而設計。DPC10 監測和控制薄膜沉積的速率和厚度。沉積的速率和厚度是根據放置在工藝室中的石英的頻率變化計算得出的。用戶編程的設備可以精確且可重復的方式控制沉積過程。