用于沉積過程控制的新型電子單元。同時(shí)操作兩個(gè)獨(dú)立的離子源/腔室。

DPC10 沉積過程控制器是一種先進(jìn)且完整的電子設(shè)備，專為物理氣相沉積過程控制而設(shè)計(jì)。DPC10 監(jiān)測(cè)和控制薄膜沉積的速率和厚度。沉積的速率和厚度是根據(jù)放置在工藝室中的石英的頻率變化計(jì)算得出的。用戶編程的設(shè)備可以精確且可重復(fù)的方式控制沉積過程。