PREVAC 磁控濺射系統 Semi-industrial MS systems用于快速和可重復的薄層應用過程，并提供最大限度的自動化操作支持。

磁控濺射系統 Semi-industrial MS systems設計允許多種沉積技術的組合，其中包括：DC/RF磁控濺射、反應濺射和使用電子束的蒸發。帶有集成計算機的電子柜配有大觸摸屏和用戶友好的軟件，將使基材的涂覆過程變得平穩輕松。

為了方便用戶，可以通過前門進入主腔室，因此很容易更換磁控管靶、基板或維修/清潔腔室內部。主腔室由不銹鋼制成，基本壓力范圍<3*10-7毫巴。在標準中，它配備了兩個3英寸磁控管源（直流、射頻）和一個6插座電子束蒸發器。具有旋轉功能的機械手能夠操作樣品支架，最大可達6英寸。

PREVAC 磁控濺射系統 Semi-industrial MS systems軟件主要用于：
沉積系統的完全控制，
用于有效快門控制的自動、手動和可編程定時器，
圖形系統狀態表示，
過程創建者和控制器，
快速、實時的數據預覽，
實時數據采集（與LIMS數據采集系統集成）。
該系統配備了先進、易于使用的電源和電子設備，用于控制和支持電源和整個研究設備。

PREVAC 磁控濺射系統 Semi-industrial MS systems主要特征：
半成品涂裝用自動化高壓裝置
非常適合沉積金屬和介電薄膜
工藝室標準尺寸：?570 mm
電源配置：2 x 3〃磁控管和6插座電子束蒸發器（可提供其他配置）
基本壓力范圍<3×10-7毫巴
具有穩定、長壽命加熱元件的雙軸機械手，可實現高達300°C的高溫
廣泛的基板支架尺寸（從10×10毫米到6英寸，其他可根據要求）和形狀
可提供磁控管源的向上濺射和向下濺射布置
在直流、射頻和脈沖直流模式下運行
Ar氣體質量流量控制自動加藥
現場表征工具的可能性，例如等離子體發射監測器（PEM）、橢圓儀、反射儀、石英天平或高溫計溫度測量系統
由單一電源和開關網絡提供的多個源，或由用于共沉積處理的多個電源提供
在直流、射頻和脈沖直流模式下運行
可通過前門快速方便地裝載基板
19英寸機柜，配有先進的電子單元和專用人機界面（HMI）設備，用于硬件輕松控制和監控過程
車輪上的剛性主框架使系統易于放置