波蘭 PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Standard MS systems的獨(dú)立配置與我們經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)解決方案使沉積過(guò)程變得簡(jiǎn)單、高效和可靠。

根據(jù)您的需求，我們的標(biāo)準(zhǔn)MS系統(tǒng)磁控濺射系統(tǒng)在單個(gè)腔室中提供多種濺射沉積技術(shù)的靈活性。每個(gè)系統(tǒng)都有一個(gè)通用安裝法蘭，可以配置用于磁控濺射沉積（具有向下濺射或向上濺射配置）或任何其他薄膜沉積技術(shù)的組合。這使得PREVAC Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng) 成為一個(gè)通用、強(qiáng)大和簡(jiǎn)單的單元，可以滿足表面科學(xué)涂層領(lǐng)域的大多數(shù)需求。

PREVAC Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng)的主要優(yōu)點(diǎn)之一是易于進(jìn)入工藝室，這可以通過(guò)前門(mén)、自動(dòng)提升的頂部法蘭或通過(guò)底部法蘭進(jìn)行，使用專門(mén)設(shè)計(jì)的手推車(chē)進(jìn)行更換。因此，可以輕松快速地更換磁控管靶、基板支架操縱器或訪問(wèn)/更換整個(gè)底部法蘭。頂部法蘭的提升機(jī)構(gòu)是電動(dòng)的，并通過(guò)傳感器進(jìn)行充分保護(hù)。

最終設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。

PREVAC Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng)配置有適當(dāng)?shù)拿芊夂捅盟拖到y(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)10^-7毫巴（帶viton密封門(mén)）、5×10^-8毫巴（帶有viton密封和差動(dòng)泵送門(mén)）或超高壓壓力（不帶門(mén)，帶快速進(jìn)入負(fù)載鎖用于襯底引入）范圍內(nèi)的基本真空。

MS systems 磁控濺射系統(tǒng)工藝室配有不同尺寸的超高壓標(biāo)準(zhǔn)連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來(lái)的設(shè)備，包括：

磁控管源，
基板操縱器，
用于清潔、蝕刻或活化襯底表面的離子源，
泵送系統(tǒng)，
用于線性傳送系統(tǒng)或運(yùn)輸箱的入口，
氣體計(jì)量系統(tǒng)：工藝氣體最多4條管線，以及最多4種氣體的質(zhì)量流量控制，
用于相鄰層或掩模的電動(dòng)或手動(dòng)快門(mén)（跟隨襯底），
殘余氣體分析儀，
石英天平，
高溫計(jì)，
帶檢測(cè)器的橢圓儀，
視口（帶百葉窗的觀察窗），
真空計(jì)

Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng)主要特征：

獨(dú)立的HV/UHV系統(tǒng)，包括用于濺射工藝的高質(zhì)量和高可用性解決方案
非常適合沉積金屬和介電薄膜
工藝室的標(biāo)準(zhǔn)尺寸：?570 mm
主室源端口配置示例：2〃磁控管用6 x DN100CF端口或10 x DN63CF（5個(gè)磁控管同時(shí)工作），3〃磁控管使用5 x DN 160 ISO-K端口
基本壓力范圍從10-7毫巴到超高壓
雙軸機(jī)械手，具有由固體SiC制成的穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的加熱器元件和接收站，可實(shí)現(xiàn)高達(dá)1200°C的高溫
廣泛的基板支架尺寸（從10×10毫米到6英寸，其他可根據(jù)要求）和形狀
提供濺射向上和濺射向下布置
在直流、射頻和脈沖直流模式下運(yùn)行
Ar氣體質(zhì)量流量控制自動(dòng)加藥
現(xiàn)場(chǎng)表征工具的可能性，例如等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器（PEM）、橢圓儀、反射儀、石英天平或高溫計(jì)溫度測(cè)量系統(tǒng)
由單個(gè)電源和開(kāi)關(guān)網(wǎng)絡(luò)提供的多個(gè)源，或由用于共沉積處理的多個(gè)電源提供
前門(mén)通道和/或裝載鎖定室，可快速輕松地裝載基板
可以使用專用起重小車(chē)完全接近或更換帶源的底部法蘭
19“帶電子單元的機(jī)柜
Synthesis軟件可對(duì)沉積過(guò)程和設(shè)備進(jìn)行全面控制

可選配件：