?波蘭 PREVAC MBE分子束外延設備 Advanced MBE systems是一款用于薄層生長技術的先進多室平臺,旨在與其他表面科學技術、輔助實驗室設備和任何配件實現最大兼容性。
MBE分子束外延設備多功能模塊化設計允許平臺輕松擴展,并與任何其他沉積、分析或制備高壓/超高壓裝置集成,例如通過徑向分布或隧道傳輸系統。
MBE分子束外延設備Advanced MBE systems適用于單晶的薄膜沉積,具有磁性能、形貌、晶體學、薄膜厚度等原位表征功能。
PREVAC MBE分子束外延設備 Advanced MBE systems可包含10個用于蒸發源的端口,襯底臺適用于直徑高達8英寸的樣品,并可選擇加熱和旋轉。沉積過程可以在較寬的溫度范圍內(從LN2到1400?C)進行控制,并且可以通過PLC控制器進行完全的軟件編程和控制。
PREVAC MBE分子束外延設備 Advanced MBE systems配有超高壓標準的連接法蘭,用于連接當前和未來的設備,包括:
最多10個帶法蘭DN 63CF(高溫或低溫、單絲或多絲)的光源,
帶法蘭DN 63CF的獨立百葉窗,
帶有電源的閥式裂解器源,
帶電源的大功率電子槍,
具有溫度范圍(從LN2到1400?C)的基板操縱器,
泵送系統(基于備用泵、TMP、離子泵和TSP泵),
帶設備的真空計,
用于線性傳輸系統的入口,例如來自負載鎖、徑向分配室、傳輸通道或傳輸箱的入口,
帶Z操作器的石英天平,
RHEED/TorrHEED帶設備,
用于相鄰層或掩模的電動或手動快門(跟隨襯底),
額外的氣體配量系統,例如用于反應沉積過程,
視口–帶百葉窗的觀察窗,
殘余氣體分析儀,
光束通量監測器,
診斷設備的加熱視口。
最終設計和功能取決于系統配置。
該系統的模塊化設計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺進行組合和集成。