超高壓系統用于超薄磁性薄膜和多層膜的原位實時磁光克爾效應研究。它旨在研究偏振光在磁場作用下通過樣品材料的反射。

 

特性

在150°C下烘烤后，基礎壓力范圍為10-10毫巴
磁極垂直于樣品排列
磁極間磁場0.25T
用于旗幟樣品架的4軸特高壓樣品操縱器
樣品加熱至800°C并用液氮冷卻
MOKE室光學系統（調制器、偏振器、光電探測器、激光器）
整個帶設備的腔室可以安裝在定位臺上
真空手提箱，便于樣品運輸
在一個帶有蒸發源的腔室中使用的可能性
與傳輸系統連接的可能性