描述

定制的多室 UHV 系統，專用于在寬溫度和壓力范圍內研究固態表面的化學和物理特性。

規格

多室系統設計用于在很好控制的條件下通過不同方法研究和修改固體表面。帶有附加分析室和輔助室的中央徑向分配室滿足這些要求并確保高質量的測量，因為樣品在 UHV 壓力 (<10?^-10毫巴)下在室之間轉移。分析室中的基礎壓力 < 5*10?^-11?mbar。

• 多功能分析室集成了標準ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測量方法。高精度的 5 軸機械手確保樣品的定位非常好，它配備有用于 LN?_{2 的}低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內冷卻和加熱樣品的加熱器。腔室由mu金屬制成，配備有半球分析儀和分析設備作為離子源、電子源、泛光槍、X射線源，并為許多其他設備做好準備?？筛鶕蛻粢髮υO備進行改造。
• 兩級制備室，配備LEED、TDS、離子源、電子束蒸發器、機械表面清潔器和許多可用于未來制備或蒸發裝置的端口。樣品上的溫度取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。
• 為粉塵樣品泵送準備的負載鎖定室，帶有內部烘烤系統。
• 用于 6 個樣品架的儲存室。

• 分配室，用于將樣品架轉移到連接在其圓周上的特定室。

緩沖室 – 系統中所有室的公共室，提供 10?^-5?mbar 的基本壓力范圍