描述
定制的多室 UHV 系統，專用于在寬溫度和壓力范圍內研究固態表面的化學和物理特性。
規格
多室系統設計用于在很好控制的條件下通過不同方法研究和修改固體表面。帶有附加分析室和輔助室的中央徑向分配室滿足這些要求并確保高質量的測量，因為樣品在 UHV 壓力 (<10?-10毫巴)下在室之間轉移。分析室中的基礎壓力 < 5*10?-11?mbar。
- 多功能分析室集成了標準ESCA、ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測量方法。高精度的 5 軸機械手確保樣品的良好定位，并配備有用于 LN2 的低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內冷卻和加熱樣品的加熱器。溫度范圍取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。腔室由mu金屬制成，配備有半球形分析儀和分析設備作為離子源、電子源、泛光槍、X射線源、單色X射線源，并為許多其他準備。可根據客戶要求對設備進行改造。
- 兩級制備室，配備LEED、TDS、離子源、電子束蒸發器、機械表面清潔器和許多可用于未來制備或蒸發裝置的端口。
- 分配室，用于將樣品架轉移到連接在其圓周上的特定室。
- 為粉塵樣品泵送準備的負載鎖定室，帶有內部烘烤系統。
- 高壓室用于加熱至 650°C 并將樣品在受控氣體氣氛中在壓力下冷卻至 2 MPa
- 用于 6 個樣品架的樣品停放室。
