描述

專用于薄層制備和表面固體樣品（晶體和電子結(jié)構）的復雜分析的多室 UHV 系統(tǒng)，采用掃描探針顯微鏡（SPM、SPS）等研究方法。MBE 室配備 7 個源，RHEED 和離子源。分析室配備了 XPS 分析儀，可使用 X 射線、離子和電子源。

規(guī)格

該系統(tǒng)專用于：

? 通過外延生長生成納米結(jié)構、薄層、磁性層狀結(jié)構和異質(zhì)結(jié)構（鐵磁/半導體）

? 使用磁性、XPS 和SPM 方法對制造的異質(zhì)結(jié)構特性進行高級研究。通過 STM、AFM 和磁力顯微鏡 (MFM) 表征磁性薄層和磁性固體材料

? 測量薄層和磁性異質(zhì)結(jié)構的表面電子態(tài)密度

? 通過 X 射線光電子能譜 (XPS) 分析表面電子狀態(tài)