描述
UHV ESCA 系統專用于在較寬的溫度和壓力范圍內研究固態表面的化學和物理特性。
規格
該系統設計用于在控制良好的條件下通過 XPS/UPS 方法調查和修改固體表面。分析室中的基礎壓力< 5*10?-11?mbar。
- 多功能分析室集成了標準ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測量方法。高精度的 4 軸機械手確保樣品的良好定位，并配備有用于 LN?2 的低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內冷卻和加熱樣品的加熱器。溫度范圍取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。腔室由mu金屬制成，配備有半球形分析儀和分析設備，如離子源、電子源、泛光槍、單色X射線源、紫外線源，并為許多其他準備。可根據客戶要求對設備進行改造。
- 為粉塵樣品泵送準備的負載鎖定室，帶有內部烘烤系統。
- 用于 6 個樣品架的樣品停放室。
