用于 FTIR 研究的多技術 UHV 系統，配備 MBE 室和制備模塊。

– 紅外室允許在真空條件下進行紅外測量：

• 用于 Bruker Optics Inc. 紅外光譜儀的溴化鉀玻璃端口制備系統。
• 具有 LN?₂冷卻和高達 2000°C EB 加熱的高精度 4 軸機械手允許在以下兩種模式下進行測量：反射和透射模式
• 用于樣品清潔的離子濺射源
• 帶有專用框架的高精度紅外真空光譜儀允許
• 氣體加藥系統
• 寬范圍壓力調節系統（1 mbar -10?^-10?mbar）

– 非有機材料兩級制備室：

• 具有 LN?₂冷卻和高達 2000°C 的 EB 加熱的高精度 4 軸機械手
• 用于樣品清潔的離子濺射源
• 原子氫源
• LEED –AUGER 光學
• 熱解吸光譜儀 TDS

– 帶低溫防護罩的 MBE 室保證基礎壓力優于 1 x 10?^-10毫巴

• 高精度、特殊設計的 2 軸 MBE 機械手，帶手動快門、LN?₂冷卻和 EB 加熱
• 工作溫度高達 1600°C 的 Efusion Cell
• 電子束蒸發器
• 沉積速率測量系統：石英平衡和厚度監視器
• 反射高能電子衍射 RHEED 15 KeV
• 等離子體原子源

– 用于轉移樣品的徑向分配室 (UFO) 在 UHV 壓力下在室之間轉移
– 負載鎖定室允許裝載 PTS 樣品架
– 存儲室包括用于 6 PTS 樣品架的停放機制
– 附件：

• 一套專用、多功能、多材料樣品架
• 所有電子單元的特殊機架
• 特殊設計的烘烤系統
• 備件