描述

UHV ESCA 系統(tǒng)專門用于在控制良好的條件下通過不同方法研究寬溫度和壓力范圍內(nèi)固態(tài)表面的化學(xué)和物理特性。

規(guī)格

該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于在控制良好的條件下通過 XPS/UPS 方法調(diào)查和修改固體表面。分析室中的基礎(chǔ)壓力< 5*10?^-11?mbar。

• 多功能分析室集成了標(biāo)準(zhǔn)ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測(cè)量方法。高精度的 4 軸機(jī)械手確保樣品的良好定位，并配備有用于 LN?_{2 的}低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內(nèi)冷卻和加熱樣品的加熱器。腔室由mu金屬制成，配備有半球形分析儀和分析設(shè)備，如離子源、電子源、泛光槍、單色X射線源、紫外線源，并為許多其他準(zhǔn)備。可根據(jù)客戶要求對(duì)設(shè)備進(jìn)行改造。
• 兩級(jí)制備室，配備LEED、TDS、離子源、電子束蒸發(fā)器、機(jī)械表面清潔器和許多可用于未來制備或蒸發(fā)裝置的端口。樣品上的溫度取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。
• 為粉塵樣品泵送準(zhǔn)備的負(fù)載鎖定室，帶有內(nèi)部烘烤系統(tǒng)。

用于 6 個(gè)樣品架的樣品停放室。