用于通過電子束蒸發(fā)進(jìn)行薄膜沉積的超薄磁性薄膜和多層膜的原位實(shí)時(shí)磁光克爾效應(yīng)研究的 UHV 系統(tǒng)。
- 150 °C 烘烤后的基本壓力范圍 10?-10?mbar
- 磁極垂直于樣品排列
- 場 beetwen 磁極 > 0,17 特斯拉
- 用于標(biāo)志樣品架的 4 軸 UHV 樣品操縱器
- 樣品加熱至 800 °C 并用 LN?2冷卻
- MOKE 室的光學(xué)系統(tǒng)(調(diào)制器、偏振器、光電探測器、激光器)
- 帶設(shè)備的整個(gè)腔室安裝在定位臺(tái)上
- 真空手提箱,便于樣品運(yùn)輸