描述

一種分析型 UHV 系統 HV 系統，專用于在寬溫度和 UHV 條件下研究固態表面的化學和物理特性。

規格

在真正的 UHV 條件下，在腔室（分析和負載鎖定）之間具有線性樣品傳輸的分析系統。分析室中的基礎壓力 < 5*10?^-11?mbar。系統準備在未來擴展徑向分布室，并有可能添加另一個處理室，如：制備室、反應器或沉積室。

• 集成不同表面分析方法的球形多技術分析室：X射線光電子能譜（XPS）、單色紫外光電子能譜（UPS）。樣品定位是通過一個非常穩定、高精度的 5 軸機械手進行的，機械手有兩個電動旋轉軸，用于自動角度映射。樣品接收站配備了 LN?₂低溫恒溫器，允許溫度在 -180°C 至 1000°C 范圍內變化（取決于樣品架型號）。該腔室由 mu-metal 制成，并配備了一個帶有 2D 探測器的半球分析儀、X 射線源、用于深度剖面的離子源、泛光源、
• 結合磁懸浮渦輪分子泵、離子泵和鈦升華泵的特高壓真空系統。半球分析儀安裝在方位角位置，
• 裝載鎖室。