描述
UHV ESCA 系統專門用于在控制良好的條件下通過不同方法研究寬溫度和壓力范圍內固態表面的化學和物理特性。
規格
該系統設計用于在控制良好的條件下通過 XPS/UPS 方法調查和修改固體表面。分析室中的基礎壓力< 5*10?-11?mbar。
- 多功能分析室集成了標準ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測量方法。高精度的 5 軸機械手確保樣品的定位非常好，它配備有用于 LN?2 的低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內冷卻和加熱樣品的加熱器。腔室由μ金屬制成，配備有半球形分析儀和分析設備，如離子源、電子源、泛光槍、單色X射線源、無單色X射線源、紫外線源，并為許多其他準備。可根據客戶要求對設備進行改造。
- 兩級制備室，配備LEED、TDS、離子源、電子束蒸發器、機械表面清潔器和許多可用于未來制備或蒸發裝置的端口。樣品上的溫度取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。
- 分配室，用于將樣品架轉移到連接在其圓周上的特定室。
- 切割器室用于切割安裝在合適的樣品架上的樣品。
- 高壓室用于加熱至 650°C 并將樣品在受控氣體氣氛中在壓力下冷卻至 2 MPa
- 為粉塵樣品泵送準備的負載鎖定室，帶有內部烘烤系統。
- 用于 6 個樣品架的樣品停放室。
