這種多功能 UHV 系統專為對材料表面進行精確和多樣的分析而設計。

規格

• 該系統由固定真空室的主框架組成：分析室、制備室、負載鎖定室和線性轉移。分析室中的基礎壓力 < 5*10?^-11?mbar。
• Multitechnique 分析室集成了不同的表面分析方法，如 ARPES、UPS 和 LEED。由 mu-metal 制造，設計用于比 0.5 meV 更好的能量分辨率