磁控濺射系統(tǒng)

波蘭PREVAC 032 PRIMS basic MS system磁控濺射系統(tǒng)

波蘭PREVAC 032 PRIMS basic MS system磁控濺射系統(tǒng)

1996年成立于波蘭,是基于真空技術(shù)的沉積和分析系統(tǒng)的全球領(lǐng)先制造商,致力于研究固態(tài)表面,薄膜和納米材料的化學和物理性質(zhì)

磁控濺射系統(tǒng), MBE分子束外延設(shè)備離子源

PREVAC 032 PRIMS basic MS system是簡單、功能齊全的噴濺沉積裝置用于可再生薄膜層的應用。?插孔與工作?緊湊型設(shè)計?.?

工藝室??包含3個用于磁控濺射源(用于金屬和無機物)的端口,安裝在一個向下發(fā)射裝置上。最多同時使用兩種來源(共沉積)的底物級是打算為2英寸直徑的樣品,與加熱和旋轉(zhuǎn)選擇。

PREVAC 032 PRIMS basic MS system特點:

  • 插入和工程施工?
  • 易于使用的快速測試和濺射涂料機動裝置
  • 處理室?l?拱形真空門?方便目標或基板更換?
  • 配備?MS2100電離-K磁控管源?小說的?M600直流-PS電源
  • 底層階段?2以下?直徑樣品?
  • 工藝室直徑:355毫米口徑?
  • 3個港口?2英寸磁控管源?
  • 1個視野-帶快門的觀察窗?
  • 防護罩?對抗交叉污染?
  • 堿壓?范圍10?-7?馬巴?
  • 快速抽水系統(tǒng)?與…有關(guān)?真空計?
  • 自動加藥?通過質(zhì)量流量控制
  • A?車輪上堅固的主框架?方便放置系統(tǒng)
  • 手動節(jié)流閥

PREVAC 032 PRIMS basic MS system描述:

快速泵送系統(tǒng)(帶手動節(jié)流閥)與工藝室的小體積相結(jié)合,使您能夠在短時間內(nèi)達到基礎(chǔ)壓力。

工藝室配有高壓標準的連接法蘭,用于連接當前和未來的設(shè)備,包括:

最多3個2英寸磁控管源,
基板操縱器,
泵送系統(tǒng),
防止交叉污染的防護罩,
石英天平
視口——帶快門的觀察窗,
真空計,
高溫計。

PREVAC 032 PRIMS basic MS system應用

應用程序例子
單層和多層導體薄膜(用于微電子和半導體器件)?Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au?
半導體金屬化的屏障層?TiN, W-Ti?
磁學電影?Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si??
光學涂料-金屬(反光)?Cr, Al, Ag?
光學涂料-介質(zhì)?MgO, TiO2?, ZrO2?
照相器?
Cr, Mo, W?
透明氣體/蒸氣滲透屏障?Al2O3
透明導體?
InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO)?

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