波蘭PREVAC Mini MBE systems沉積系統,分子束外延系統

PREVAC Mini MBE systems一種簡單且功能齊全的 Mini MBE 系統用于薄層的外延生長。即插即用的緊湊設計。

如果您需要高質量的沉積工藝，并結合低運行成本的設計和小尺寸的設備，那么這就是答案。PREVAC Mini MBE systems該裝置非常適合在研發裝置中快速測試新材料和技術。

分子束外延系統適用于來自 III/V、II/VI 族以及其他異質結構等的元素的生長。

PREVAC Mini MBE systems特征：

• 即插即用結構
• 經濟的解決方案，專為空間有限的實驗室而設計
• 適合 III/V、II/VI 族元素以及其他異質結構的生長
• 多達 8 個蒸發源 DN 40CF?端口，帶電源
• 具有高精度溫度控制的 4 軸電動或手動機械手：電阻加熱高達 1000°C，EB 加熱高達 1400°C，水或 LN₂冷卻（可根據要求提供更簡單的機械手）
• 適用于?Flag 型底物/樣品架
• LN?的極限壓力₂護罩： <2×10^-10毫巴
• 小工藝腔?? 250 mm，帶可更換的下法蘭
• 泵送系統（基于前級泵、TMP、離子泵和TSP）
• 用于沉積速率測量和厚度監測器的石英天平，帶有 Z 機械手，用于測量焦點的速率
• RHEED/TorrRHEED 帶設備
• 40CF 端口上的附加獨立快門
• 用于單個樣品架的裝載鎖室或用于 6 或 12 個 Flag 型基板支架的轉盤（作為存儲）
• 可靠、快速的線性傳輸系統，從負載鎖到工藝室
• 帶設備的真空計
• Viewports – 帶百葉窗的觀察窗
• 烘烤前帶有集成吹掃管路的冷卻系統
• Bakeout 系統
• 可調節的剛性主機架，帶有大輪子，便于放置系統
• 帶電子單元的 19 英寸機柜

PREVAC Mini MBE systems沉積系統描述：

該處理室包含8個用于蒸發源的端口，而基板階段適用于10×10毫米的樣品，具有加熱和旋轉選項。

沉積過程可以在很寬的溫度范圍內進行控制（從 LN₂高達 1400°C），并且可以完全通過 PLC 控制器進行軟件編程和控制。

PREVAC 工藝腔室配有 UHV 標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括：

• 最多 8 個帶法蘭 DN40CF 的滲出池（高溫或低溫，單絲或多絲），
• 溫度范圍 （LN 起）₂高達 1400°C）、
• 泵送系統（基于前級泵、TMP、離子泵和TSP），
• 帶設備的真空計，
• 用于線性傳輸系統或運輸箱的入口，
• 石英天平、帶 Z 機械手的厚度監測器、
• RHEED/TorrRHEED 與設備，
• 電動或手動快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
• 額外的氣體劑量，例如。對于反應沉積過程，
• viewports – 帶百葉窗的觀察窗，
• 殘余氣體分析儀 /
• 診斷設備的加熱視口。

最終的設計和功能取決于系統配置。

泵送系統與小體積工藝腔相結合，可在短時間內達到極限壓力，其中極限壓力保證低于 5×10^-10mbar 的

PREVAC Mini MBE systems該系統配備了先進、易于使用的電源和電子設備，用于控制和支持離子源和整個包含的研究設備。