PREVAC High Pressure Photoemission Spectroscopy UHV System 高壓光發射光譜特高壓系統
配備了HP分析儀，但重點是高度靈活的樣品環境，部分以新開發的，高度通用的氣室的形式出現，部分以可能用完全不同的腔室設置替換分析室的形式出現。因此，該站將允許對氣固和氣液相互作用進行前沿研究。該系統配備了自動控制功能，以允許許多不同的操作員安全有效地操作許多不同類型的樣品。
系統的核心是分析模塊，該模塊基于高壓分析儀和PREVAC設計的氣室概念。
HP電池3軸機械手設計允許通過IR激光照射加熱樣品（樣品池內可達到800°C以上的樣品溫度），電阻加熱（最高700°C）和LN?2冷卻（雙Z軸：1個）用于氣室的正確放置，第二用于高度精確的樣品放置）。為方便與氣室分離，將操縱器安裝在導軌上。
▪環境壓力50毫巴- 10?-10毫巴
▪高度靈活的樣品環境
▪創新，多功能氣體細胞
▪易于HP細胞操作dissasembly
▪易分析器模塊dissasembly
▪操作簡便
▪對于氣體-固體和氣體-液體的相互作用
