專用于 XPS (ESCA)/UPS 實驗的系統，壓力范圍為 5 mbar – 10?^-10?mbar，樣品溫度可控。設備提供完整的 PLC 保護和軟件控制，包括機器狀態的清晰可視化、數據采集、所有集成設備、電源和輔助設備的控制。

• 分析室– 由 μ 金屬制成，帶有用于電流和其他設備的連接法蘭。基礎壓力范圍 10?^-10?mbar（在 120 oC 烘烤后），
• EA15-HP5半球能量分析儀 (XPS/UPS) – 配備總共 11 個狹縫，該分析儀提供了在最佳能量分辨率和最佳強度之間進行選擇的可能性。平均半徑：150 毫米。
• X 射線源RS 40B1?（HP 版）——高強度雙陽極 X 射線源，
• 帶單色儀RMC50（HP 版）的X 射線源，帶電子裝置（發射控制器、冷卻箱和用于操作 RMC50 和 RS40B1 X 射線源的高壓電源），
• UV源UVS 40A2，
• RUDI-EA2?– 高穩定低噪聲電子，
• SPECTRIUM?– 在處理和直觀圖形界面方面的漸進式優化軟件工具，
• 用于 PTS 樣品架的4 軸全電動 UHV 機械手（帶加熱和 LN?₂冷卻），
• 用于分析室、HP 分析儀和分析部件的泵送系統，
• 分析室的氣體計量系統。