用于具有集成 MBE 室的超分辨率 ARPES 測(cè)量的多技術(shù)光發(fā)射 UHV 系統(tǒng)。系統(tǒng)設(shè)置包括：
▪分析室：基礎(chǔ)壓力 10?^-11毫巴范圍，
▪ 超高分辨率光電子分析儀，帶廣角接受透鏡。
▪ PREVAC?RMC50單色 X 射線源
▪ 高分辨率和靈敏度 LEED–AES 光譜儀
▪ 5 軸機(jī)械手，帶 LHe 冷卻（開放循環(huán)）用于分析室
▪?MBE 室：基本壓力范圍 2×10?^-10?mbar
▪ 15kV 靜電聚焦 RHEED 電子-來(lái)源
▪ 帶有 RES 加熱至 1000 °C 和 LN?_{2 的}4 軸機(jī)械手MBE 室冷卻
▪ 帶負(fù)載鎖和存儲(chǔ)室的轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，用于 12 旗式樣品架
▪ 附加設(shè)備：離子源IS 40C1、泛光源FS?40A1、滲流池、電子束蒸發(fā)器EBV 40A1、石英天平QO 40A1等。