用于通過電子束蒸發進行薄膜沉積的超薄磁性薄膜和多層膜的原位實時磁光克爾效應研究的 UHV 系統。

• 150 °C 烘烤后的基本壓力范圍 10?^-10?mbar
• 磁極垂直于樣品排列
• 場 beetwen 磁極 > 0,17 特斯拉
• 用于標志樣品架的 4 軸 UHV 樣品操縱器
• 樣品加熱至 800 °C 并用 LN?₂冷卻
• MOKE 室的光學系統（調制器、偏振器、光電探測器、激光器）
• 帶設備的整個腔室安裝在定位臺上
• 真空手提箱，便于樣品運輸