描述

一種分析 UHV 系統(tǒng)，專用于研究 UHV 條件下固態(tài)表面的化學(xué)和物理特性，并與 MBE 室集成。

規(guī)格

– 基本壓力范圍為 5*10?^-11?mbar 的分析室，由 mu-metal 制成，保證剩余磁場低于 0.5 微特斯拉。
– 裝載鎖定室允許裝載多達三個 2” PTS 樣品架
– 特殊設(shè)計的 MBE 室配備：

• 高精度 2 軸機械手，帶有用于 2” 支架的載物臺，帶有用于 3” 加熱器的加熱模塊和周圍的水罩（加熱至 1000°C – 與氧氣兼容）
• 10 個源的端口
• 10 個專用于信號源的電動氣動快門
• 沉積速率測量系統(tǒng)：石英平衡和厚度監(jiān)視器
• 光束通量監(jiān)視器
• 未來其他組件的額外自由端口
• 沉積過程可通過專用 PC 軟件和 PLC 控制器完全編程。

– 用于轉(zhuǎn)移樣品的徑向分配室 (UFO) 在 UHV 壓力下在室之間轉(zhuǎn)移
– 附件：

• 一組專用樣品架
• 所有電子單元的特殊機架
• 特殊設(shè)計的烘烤系統(tǒng)

用于 2” PTS 樣品架的傳輸系統(tǒng)。