描述

定制的多室 UHV 系統(tǒng)，專用于在寬溫度和壓力范圍內(nèi)研究固態(tài)表面的化學(xué)和物理特性。

規(guī)格

多室系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于在很好控制的條件下通過不同方法研究和修改固體表面。帶有附加分析室和輔助室的中央徑向分配室滿足這些要求并確保高質(zhì)量的測量，因?yàn)闃悠吩?UHV 壓力 (<10?^-10毫巴)下在室之間轉(zhuǎn)移。分析室中的基礎(chǔ)壓力 < 5*10?^-11?mbar。

• 多功能分析室集成了標(biāo)準(zhǔn)ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測量方法。高精度的 5 軸機(jī)械手確保樣品的定位非常好，它配備有用于 LN?_{2 的}低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內(nèi)冷卻和加熱樣品的加熱器。腔室由mu金屬制成，配備有半球分析儀和分析設(shè)備作為離子源、電子源、泛光槍、X射線源，并為許多其他設(shè)備做好準(zhǔn)備。可根據(jù)客戶要求對設(shè)備進(jìn)行改造。
• 兩級制備室，配備LEED、TDS、離子源、電子束蒸發(fā)器、機(jī)械表面清潔器和許多可用于未來制備或蒸發(fā)裝置的端口。樣品上的溫度取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。
• 為粉塵樣品泵送準(zhǔn)備的負(fù)載鎖定室，帶有內(nèi)部烘烤系統(tǒng)。
• 用于 6 個樣品架的儲存室。

• 分配室，用于將樣品架轉(zhuǎn)移到連接在其圓周上的特定室。

緩沖室 – 系統(tǒng)中所有室的公共室，提供 10?^-5?mbar 的基本壓力范圍