描述

UHV ESCA 系統(tǒng)專用于在較寬的溫度和壓力范圍內(nèi)研究固態(tài)表面的化學(xué)和物理特性。

規(guī)格

該系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于在控制良好的條件下通過 XPS/UPS 方法調(diào)查和修改固體表面。分析室中的基礎(chǔ)壓力< 5*10?^-11?mbar。

• 多功能分析室集成了標(biāo)準(zhǔn)ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測量方法。高精度的 4 軸機(jī)械手確保樣品的良好定位，并配備有用于 LN?_{2 的}低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內(nèi)冷卻和加熱樣品的加熱器。溫度范圍取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。腔室由mu金屬制成，配備有半球形分析儀和分析設(shè)備，如離子源、電子源、泛光槍、單色X射線源、紫外線源，并為許多其他準(zhǔn)備?？筛鶕?jù)客戶要求對設(shè)備進(jìn)行改造。
• 為粉塵樣品泵送準(zhǔn)備的負(fù)載鎖定室，帶有內(nèi)部烘烤系統(tǒng)。
• 用于 6 個(gè)樣品架的樣品停放室。