描述

專用于通過(guò)電子光譜技術(shù)對(duì)固體和粉末樣品進(jìn)行表面分析的多室 UHV 系統(tǒng)：

• X 射線光電子能譜 (XPS)
• 紫外光發(fā)射光譜 (UPS)
• 俄歇電子能譜 (AES)
• 掃描探針顯微鏡 (SPM)
• 低能電子衍射 (LEED)
• 程序升溫脫附 (TPD)
• 解決方案允許在所有腔室中使用一種樣品架類型。

該系統(tǒng)包括：

• 帶有分析儀（包括儀器和軟件）的光譜室，允許使用 XPS、UPS、AES、EPS 技術(shù)。該分析儀支持 XPS 測(cè)量，在所選表面 <= 1x1mm 上進(jìn)行高分辨率、精確和深度輪廓分析，可以進(jìn)行化學(xué)成像和角分辨測(cè)量
• 帶有儀器和軟件的變溫 STM/AFM 室，專用于原子分辨率測(cè)量
• 專門(mén)用于制備樣品的制備室，配備有 AES/LEED 光譜儀和帶有殘余氣體分析儀（包括儀器和軟件）的熱解吸光譜儀。此外，還配備了用于薄膜生產(chǎn)的熱和電子轟擊源和用于表面清潔的離子源。腔室配備機(jī)械手XYZ，
• 旋轉(zhuǎn)傾斜允許將樣品冷卻至 90°K 并將樣品加熱至 2200°K。

此外，該系統(tǒng)還配備：
樣品裝載、傳輸和存儲(chǔ)系統(tǒng)，樣品制備和清潔設(shè)備。UHV 流經(jīng)高壓反應(yīng)器。氣體加藥系統(tǒng)、壓力和溫度測(cè)控系統(tǒng)、真空控制系統(tǒng)。樣品溫度測(cè)控系統(tǒng)。樣品裝載，為 UHV 手提箱使用做準(zhǔn)備，獨(dú)特的徑向分布室系統(tǒng)，具有極易處理的解決方案。具有加熱和冷卻可能性的儲(chǔ)藏室。用于高達(dá) 20 bar 和 650°C 的熱/壓力過(guò)程的高壓反應(yīng)器。在高壓和特高壓下極短時(shí)間加熱的解決方案。