描述

多室 UHV 系統專用于通過電子光譜技術對固體和粉末樣品進行表面分析，尤其是：

• X 射線光電子能譜 (XPS)
• 紫外光發射光譜 (UPS)
• 俄歇電子能譜 (AES)
• 掃描探針顯微鏡 (SPM)
• 低能電子衍射 (LEED)
• 程序升溫脫附 (TPD)

該系統包括：

• 帶有分析儀（包括儀器和軟件）的光譜室，允許使用 XPS、UPS、AES、EPS、TPD 技術。該分析儀能夠以高分辨率 (<20mm) 進行 XPS 測量，在選定表面上進行精確和深度分析 ≤ 1x1mm，可以進行化學成像和角分辨測量
• 帶有儀器和軟件的可變溫度 STM/AFM 室，專用于原子分辨率測量
• 專門用于制備樣品的制備室，配備有 AES/LEED 光譜儀和帶有殘余氣體分析儀的熱解吸光譜儀（包括儀器和軟件）

該系統還配備了：

• 樣品裝載、轉移和儲存
• 用于樣品制備和清潔的裝置
• 專用于光譜和色譜氣體分析的 UHV 流通式高壓反應器
• 氣體計量
• 壓力溫度測控系統
• 真空控制系統
• 樣品溫度測控系統

測量溫度范圍為 100-2300°K。該系統允許獨立和同時使用電子光譜技術。靈活的設計允許輕松修改以滿足未來的科學需求。