描述

定制的多室 UHV 系統，用于原子和電子表面結構分析、表面復雜外延金屬或分子膜的研究和制備以及多層膜樣品中界面的化學分析。

規格

圍繞中央徑向分布室設計的多室系統，帶有連接的分析室和輔助室，可滿足真正 UHV 條件（壓力低于 10?^-10毫巴）下的樣品傳輸需求。分析室中的基礎壓力 < 5*10?^-11?mbar。中央徑向分配室通過重定向室連接到具有相同設計的第二分配室。第二個系統提供與商用高性能 XPS 系統的連接，以及通往第二個制備室、裝載鎖和樣品儲存室的通道。

• 集成多種表面分析方法的多技術分析室；X射線光電子能譜（XPS）、單色紫外光電子能譜（UPS）、離子散射能譜（ISS）和俄歇電子能譜（AES）。樣品定位是通過一個穩定、高精度的 5 軸機械手和兩個電動旋轉軸實現的。樣品接收站配備了 LN?₂低溫恒溫器，允許溫度在 -180°C 至 1000°C 的范圍內變化。mu-metal 室配有半球分析儀、X 射線源、帶單色器的紫外線源、電子源和泛光槍。靈活的設計允許根據未來的科學需求輕松修改。
• 5 軸機械手和專用軟件允許以優于 0.1 度的角分辨率和可重復性測量 X 射線光電子衍射數據 (XPD)。
• 紅外光譜室 (FT-IR) 與商用紅外光譜儀，也可用作獨立儀器。樣品可以在測量過程中加熱和冷卻，腔室配備有氣體計量和電子束蒸發器，用于原位樣品制備。
• 三級制備室，配備 LEED、離子源、電子束蒸發器、Knudsen 池和可用于未來擴展的眾多端口。
• 用于 6 個樣品架的儲存室。
• 裝載鎖定室配備可拆卸手套箱，用于簡單的樣品裝載或在減少氧氣和水氣氛下的樣品制備。