描述

定制的多室 UHV 系統(tǒng)(EMIL)，用于在硅薄膜沉積集群、SISSY@EMIL 終端站和其他分析工具、沿樣品傳輸系統(tǒng)和徑向分布室位于的負(fù)載鎖定和存儲室之間傳輸。硅薄膜沉積簇通過處理器傳輸室、樣品分離室、模塊化超高真空樣品傳輸系統(tǒng)和徑向分布室連接到 SISSY@EMIL 終端站。

規(guī)格

EMIL 多室系統(tǒng)專注于材料研究，以實(shí)現(xiàn)未來可持續(xù)、經(jīng)濟(jì)和安全的能源供應(yīng)。EMIL 致力于對用于能量轉(zhuǎn)換、能量存儲和能源效率的材料和設(shè)備進(jìn)行最先進(jìn)的合成以及原位和操作中 X 射線分析。EMIL 的工作將涵蓋從基礎(chǔ)和應(yīng)用材料科學(xué)到技術(shù)和原型開發(fā)到工業(yè)研究的范圍。EMIL 的研究將涵蓋廣泛的能源相關(guān)主題，包括光伏 (PV)、太陽能燃料、生物質(zhì)到液體燃料、熱電材料、電池電極材料、儲氫、化學(xué)工業(yè)的節(jié)能催化劑等過程隨著氨的生產(chǎn)，隨著外部用戶和工業(yè)將在 EMIL 進(jìn)行研究，新領(lǐng)域?qū)⒌玫桨l(fā)展。

EMIL 將用于各種材料類別的多種合成和沉積技術(shù)與基于同步加速器的復(fù)雜分析相結(jié)合，該分析可以在納米尺度上以橫向和深度分辨率探測薄層和界面特性。有前景的方法是在一個專用真空系統(tǒng)中將不同的基于同步加速器的 X 射線表征技術(shù)與相關(guān)的沉積和后處理能力相結(jié)合。

EMIL 的設(shè)計(jì)使其可以為多達(dá)三個實(shí)驗(yàn)終端站提供服務(wù)，每個終端站都可以同時訪問 80 eV – 10 keV 非常寬的能量范圍內(nèi)的軟和硬 X 射線，并且在一個集成的超- 高真空系統(tǒng)。此外，粉紅色光束終端站計(jì)劃為色散 X 射線發(fā)射光譜 (XES) 啟用 2-10 keV 光子的高通量源。

• 由RAPID SE操作的全自動傳輸系統(tǒng)
• 17個室，其中4個徑向分布室
• 為 10x10mm 至 6 英寸的樣品準(zhǔn)備
• 溫度范圍廣 – 從 LN?2級到 1450?o?C
• 傳輸過程中的基本壓力 10?-10?mbar
• 可存放 65 個樣品架